Поиск

Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Высоковольтные источники питания для установки в серверную стойку и настольное исполнение, отличительные черты: 🔸 выходное напряжение от 1 кВ до 160 кВ; 🔸 мощностью от 10 Вт до 20 кВт; 🔸 пульсации менее 0.1%; 🔸 полный комплекс защит; 🔸 КПД более 90%; 🔸 цифровые интерфейсы: RS-232, RS-485, USB, Ethernet; 🔸 Температурная стабильность 50 ppm/⁰C. Сферы применения: электростатические фильтры, обработка полупроводниковых материалов, электронно-лучевая сварка, зарядка конденсаторов, высокомощные радиочастотные передатчики, высокомощные радиолокационные системы, рентгеновские системы, ионная имплантация, НИОКР, Тестовое оборудование, источник опорного питания.

Высоковольтные источники питания на печатную плату, отличительные черты: 🔸 фиксированное или регулируемое выходное напряжение; 🔸 выходное напряжение от 65 до 40 000 В; 🔸 мощностью от 1 до 125 Ватт; 🔸 низкий уровень пульсаций (до 0.005%); 🔸 полный комплекс защит; 🔸 мониторы тока и напряжения; 🔸 цифровые интерфейсы (опция). Сферы применения: фотоумножители (ФЭУ/ PMT), масс-спектрометры, газовые хроматографы, импульсные генераторы, детекторы элементарных частиц, электростатика, сканирующие электронные микроскопы, трубки/счетчики Гейгера-Мюллера, микроканальные пластины, источник опорного питания/напряжения, лазерная техника, модуляторы, радарная техника.