Поиск

Установка оснащена автономной системой оборотного водоснабжения, а также модемом, позволяющим осуществлять дистанционное управление технологическим процессом, осуществлять настройку онлайн и передавать данные о неисправности в службу поддержки.

Установка предназначена для нанесения сверхтвердых покрытий различных металлов и их соединений, а также алмазоподобных пленок на основе аморфного углерода и может быть использована для улучшения эксплуатационных характеристик различных видов инструментов, применяемых для металлообработки, деталей узлов трения, изделий микромеханики, а также для формирования биофункционального покрытия на изделия медицины.

Комплекс имеет четыре рабочих камеры, объединенных шлюзовой системой и транспортными связями в линию вакуумного напыления.

Установка предназначена для нанесения износостойких упрочняющих и коррозийностойких покрытий на металлические детали ионно-плазменным методом. Установка используется для улучшения эксплуатационных характеристик различных видов инструментов применяемых для металлообработки.

Установка комплектуется одним испарителем для нанесения резистивных сплавов, двумя испарителями для нанесения металлических слоев и источником ионной очистки.

Высокая производительность установки обеспечивает возможность ее использования для серийного производства изделий микроэлектроники. Установка комплектуется двумя магнетронами и источником ионной очистки. Установка обеспечивает: безмасляную откачку на базе криогенного или турбомолекулярного насосов. очистку поверхности изделий перед напылением с помощью ионного источника постоянного тока; нагрев изделий до заданной температуры, контроль и поддержание температуры в процессе напыления слоев; автоматическое выполнение программ «от загрузки до разгрузки» контроль и автоматическое окончание напыления резистивных и металлических пленок по заданному времени или по заданному сопротивлению «свидетеля»; Основные технические характеристики: Количество подложек размером 60×48 мм, обрабатываемых за один цикл, шт. — 40. Диапазон температуры нагрева подложек, °С — 100-350. Скорость вращения карусели, об/мин — 10-60. Время подготовки установки к работе с учетом «разгона» крионасоса не более, мин. — 80

Высокая производительность установки обеспечивает возможность ее использования для серийного производства изделий микроэлектроники. Установка комплектуется двумя магнетронами и источником ионной очистки.

Установка комплектуется одним резистивным и двумя электронными испарителями с кольцевым катодом, источником ионной очистки.

Установка Оратория 5М обеспечивает: • безмасляную (сухую) откачку на базе форвакуумного и криогенного, или турбомолекулярного насосов; • ручное управление скоростью конвейера, током нагревателя пластин; • работу двух магнетронов в диапазоне мощности от 2 до 6 кВт.; • работу радиочастотного плазменного генератора РПГ-250; • исключение «человеческого фактора» при проведении техпроцесса нанесения покрытий и минимизация возможности получения брака; • повторяемость характеристик покрытий из загрузки в загрузку; • корректировку, при необходимости, параметров режима во время процесса без его останова («ручной режим»); • возможность создавать любые новые техпроцессы самостоятельно; • протоколирование техпроцессов, позволяющее технологу проводить контроль и оперативное выявление причин возникновения брака в производстве покрытий; • непрерывный мониторинг оборудования и управление его работой при возникновении аварийных ситуаций; • диагностику и регистрацию параметров функционирования основных систем оборудования, что позволяет оперативно находить возникающие неполадки и неисправности.

Установка «Оратория 29М» обеспечивает: • безмасляную вакуумную откачку на базе криогенного насоса; • автоматическую загрузку пластин на конвейер из кассеты и выгрузку пластин в кассету, счет загружаемых и выгружаемых пластин, световую и звуковую сигнализацию об окончании загрузки и выгрузки пластин; • ручное управление скоростью конвейера, током нагревателя пластин; • работу трех магнетронов в диапазоне мощности от 2 до 6 кВт.; • работу радиочастотного плазменного генератора РПГ-250; • исключение «человеческого фактора» при проведении техпроцесса нанесения покрытий и минимизация возможности получения брака; • повторяемость характеристик покрытий из загрузки в загрузку; • корректировку, при необходимости, параметров режима во время процесса без его останова («ручной режим»); • возможность создавать любые новые техпроцессы самостоятельно; • протоколирование техпроцессов, позволяющее технологу проводить контроль и оперативное выявление причин возникновения брака в производстве покрытий; • непрерывный мониторинг оборудования и управление его работой при возникновении аварийных ситуаций; • диагностику и регистрацию параметров функционирования основных систем оборудования, что позволяет оперативно находить возникающие неполадки и неисправности.

Установка предназначена для осаждения многослойных тонких пленок из металлов, сплавов и диэлектриков, методом термического испарения материала электроннолучевыми испарителями на кремниевые подложки диаметром до 100мм.

Предназначена для нанесения сверхтвердых покрытий различных металлов и их соединений, а также алмазоподобных пленок на основе аморфного углерода и может быть использована для улучшения эксплуатационных характеристик различных видов инструментов, применяемых для металлообработки, деталей узлов трения, изделий микромеханики, а также для формирования биофункционального покрытия на изделия медицины.