成分

设计用作真空系统旋转台的一部分，用于产品上金属膜的电弧溅射。在溅射过程中，产品会受到高温加热，这就需要从旋转台上去除热量。为此，在 MZhU AP 10.000.00 中安装了一个冷却轴。 MZhU 的安装方式为法兰安装。材料为不锈钢。 磁流体密封的特点： 产品重量 2.6 千克 产品尺寸 Ø110*83 mm 产品轴内径 30 毫米 轴旋转频率 300 rpm 工作温度范围 0 至 +60 ˚C 产品保持的极限真空 10-5 Pa 氦气流量不超过 10-12m3Pa/s。 密封介质：稀薄空气、非腐蚀性气体

规格 材质：S-TIH53（大原） 长度，毫米：5.8±0.02 高度，毫米：1.5±0.02 厚度，毫米：0.55±0.01 折射率，毫米：1.823 节距，毫米：0.5 半径，毫米：1.49 有效焦距，毫米：1.81 后焦距，毫米：1.5 透射率，%：>99.5 抗反射涂层，nm 适用于范围内的波长之一：400-1500 数值孔径：0.09 表面质量 λ = 633 nm% λ/4 全角残余偏差 FW1/e2（对于无线性偏差的激光二极管），mrad：90.0。

尺寸DN10,16,20,25,32,40定心环（铝/不锈钢钢），具有圆形横截面的O形环。

ASTRON-384V17热成像模块专为ASTRON-38417探测器设计。使用敏感元件尺寸为17微米的探测器和经过验证的生产技术使得可以获得小于60 mK的整体模块灵敏度，并且降噪技术的使用增加了在极端范围内检测物体的可能性。

比色皿KR1设计用于研究以薄层形式放置在两个窗口之间的液体，其厚度由从标准套件中选择的黄铜垫片的厚度决定。 样品可以以纯的形式分析或用适当的溶剂稀释。 一套黄铜垫圈: 0,1; 0,2; 0,3; 0,5; 0,8. 窗户材料：KBr，CaF2，ZnSe。

电导检测器已成功应用于双柱和单柱离子色谱法。为了进一步稳定温度，洗脱液在聚合物毛细管（内径 0.25 毫米）的样品池入口处进行恒温，总死体积（包括样品池体积）不超过 70 微升，因此仪器可用于内径 2 毫米或更大的色谱柱。带有不锈钢电极的专用样品池设计可防止析气，从而降低检测器噪音。 样品池容量 20 µl 样品池温度范围 40 - 60 °С 样品池恒温器温度精度为 0.1 °C 样品池电极电压振幅 50 mV 矩形电压频率 10 kHz 电池片电阻测量范围 50 - 107 欧姆 时间常数设置范围 1 - 4 秒 增益范围 1 - 999 流道材料 PEEK, SS316 接头入口和出口毛细管 1/16 "OD 可进行远程微处理器软件更新 接口 Akvilon BUS、RS-232、USB、模拟输出 进入工作模式的时间 20 分钟 电源，电压/频率 220 伏/50 赫兹 功耗，不超过 40 伏安 外形尺寸（高、宽、深） 160 x 330 x 300 毫米 重量 3.75 千克

设计用于将旋转从电机传送到真空溅射系统的行星转盘。由于在溅射过程中，带有基片支架的转盘会被加热到很高的温度，因此旋转输入外壳是水冷的，介质分离的方法是磁流体密封。 带有磁流体密封的冷却旋转输入装置的特点： - 旋转频率 5 rpm； - 磁流体密封区域的温度为 120 0C； - 轴上的径向载荷高达 1000N； - 通过磁流体密封的氦气流量不超过 10-12 m3Pa/s； - 真空室中的残余压力不低于 10-5 Pa。 - 真空室中的工艺气体：氮气、氩气、氧气、氢气。

主镜直径 - 360 mm 主镜相对孔径-F/3 次镜直径 - 140 mm 等效相对光圈 - F/8 等效焦距 - 2880 mm 焦平面偏移超出主镜顶部 - 307 mm 镜子之间的距离 - 702 mm 主镜厚度 - 45 mm 次镜厚度 - 20 mm 主镜中心孔直径为120mm 镜面材质：LK-7（低线膨胀温度系数光学玻璃） 根据协议，光学元件可以由 Sital 制造 光学精度：整个系统波前畸变1/4λ以下，均方根偏差（RMS）1/25λ以下，斯特列尔准则0.95以上 镜面涂层 Al + SiO2（石英）

清洗溶液容器

EG-1100控制器设计用于控制压电定位器的运行，如Ratis扫描平台和Vectis单轴运动，或其他压电设备。 一般特征: CPU, 32比特；RISC PC接口， USB2.0 其他接口，RS232，RS485， SYNC I/O 高电压输出 电压，-10..150伏 噪音，<5ppm 电路数量，3个 DAC（数模转换器）比特率，18比特

磁流体密封 AP 03.000.00 是 Kurt J. Lesker（美国）公司的磁流体密封 KLFDMTM06M12 的国内类似产品，设计用于将旋转传递到真空介质。 LLW 的主体上有一个螺纹柄，通过这个螺纹柄可以将产品通过一个孔连接到真空装置上。MZhU 的固定是通过装置高真空部分侧面的螺母（包含在套件中）进行的。通过安装在 MLC 端部凹槽中的 O 形环，确保磁流体密封件安装的密封性。 磁流体密封提供 -反应腔内的持续压力不低于 10-6 Pa。 -氦气流量不超过 10-12 m3Pa/s。 -转速可达 20000 rpm。