镜面反射前缀PZO30和PZO45

DT13支架设计为通过直径为13mm的片剂的机械夹具固定，从粉末状固体样品和KBr晶体的混合物中压缩。

该设备在光谱的中红外区域工作，具有用于输入来自外部源的辐射的光学端口，并配备惰性气体吹扫系统。 技术规格: 光谱范围，cm-1 370-7800 光谱分辨率，cm-10.1 信噪比（在2100-2200cm-1范围内测量时间为1min，分辨率为4cm-1）>60,000 获得一个全谱的最小时间小于，具有1 测量通道数2 具有Ge基涂层的KBr分束器 辐射源为高温金属陶瓷或外 DLATGS探测器，冷却光敏PbSe 比色皿隔间的尺寸，200x190x170 mm 外形尺寸,540x490x250 mm 重量，36公斤。

该支架允许在FSM光谱仪中使用Specord型比色皿，并具有适当的连接尺寸。

PRIZ前缀的主要优点是在镜面抛光金属板上赋予微物体薄层形状后，可以获得明确定义的微物体光谱（在所谓的双通道模式下，当辐射两次穿透物质层时，从镜面基板反射）。 具有内置视频摄像机的视觉控制系统的存在显着增加了设置时的信息内容以及获得的结果的可靠性。 在前缀的帮助下，还可以以原生形式注册散装样品和任意几何形状的固体物体的反射光谱，包括片剂，粉末和颗粒形式的药物，聚合物碎片，LCP，沉积在表面 技术规格 在频谱的工作范围内传输，输入信号的%至少为40 配准光谱时推荐的扫描次数为25 25次扫描时的频谱配准时间（分辨率4cm-1），sec30 固体样品的最小初始尺寸，mm0.2×0.2 固体样品的最大面积，mm20X20X10 可变对焦范围，mm10 焦点的直径，mm3 Zdo45o模式下辐射（中心光束）在样品上的入射角 4x视觉通道的微镜头放大/总放大 光学系统的视场，mm2X2.5 数字摄像机的分辨率为640x480 外形尺寸,mm140×105×160 重量,kg1.16

技术规格: 光谱范围，cm-1 370-7800 光谱分辨率，cm-1 1.0（FSM2201）和0.5（FSM2202） 信噪比（在2100-2200cm-1范围内测量时间为1min，分辨率为4cm-1）>60,000 获得一个全谱的最小时间小于，具有1 具有Ge基涂层的KBr分束器 辐射源为高温金属陶瓷 DLATGS Pyropriemnik探测器 比色皿隔间的尺寸，150x190x170 mm 外形尺寸,520x370x250 mm 重量，28 公斤。

它们用于研究液体，包括低浓度的溶液 *有一个可折叠的设计，允许您使用提供的不同厚度的垫圈 *窗口材料-ZnSe（可以从SiO2和KBr订购窗口） *垫片材料-特氟龙（氟塑料） *垫片厚度–0.022mm，0.1mm等

它旨在对各种类型的固体不透明样品进行快速分析，包括聚合物薄膜和碎片，油漆涂层，片剂形式的成品剂型，光学部件和半导体材料。 •样品位于被调查表面的被调查平面上向下，中心光束在样品上的入射角为45° *焦点的直径为3毫米 *允许您探索任何形状和大小的对象 •使用微型压力机时，它允许您在合金钢制成的镜板上以薄层的形式检查样品（辐射穿过物质层两次，从镜面反射） *不使用：用于研究散装和液体物质

通用实验室IR傅里叶光谱仪FSM2201和FSM2202设计用于光谱中红外区域的科学研究和分析测量。 定性和定量分析气态，液态和固态的有机和无机物质样品，包括薄膜和粉末。 傅立叶光谱仪FSM2201/2202基于迈克尔逊干涉仪，具有自补偿功能，不需要动态调整。 光谱仪配有干燥空气或氮气吹扫系统，以最大限度地减少水蒸气和二氧化碳的光谱干扰，并具有光学窗口和分束器的防潮涂层。 仪器控制、自我测试、配准、分析和光谱处理的操作是自动化的，并使用个人计算机和由公司专家为Windowsxp/Vista环境开发的已安装的FSpec基本软件进行/7/8/10 ... 该程序具有直观的用户界面，允许您创建自己的fsm光谱仪上获得的光谱库，以及使用标准库并使用格式*的光谱。spe，*。spc，*。dx，*。asc。 频谱处理包括基本的数学运算和变换，搜索谱线和确定其参数。 根据标准方法工作：GOST、ASTM、EN、SEMI或在分析仪模式下进行测量，附加的软件模块与"按钮"控制的设备，附加的设备，内置的测量算法和校准被加载到FSpec平台。 该装置的通用性是通过在其比色皿室中安装各种气体和液体比色皿、光学附件和装置的可能性来确保的,从而可以研究液体、固体和气体样品。 FSM2201/2202型号的红外傅里叶光谱仪与之前生产的型号（FSM1201/1202）不同之处在于，其信噪比更高，比色皿更大。

FSM2211基于Fsm2211光谱仪，这是一种迈克尔逊型干涉仪，具有自补偿功能，无需动态调整。 技术规格: 光谱范围，cm-1 3700-12500 光谱分辨率，cm-12 信噪比（在2100-2200cm-1范围内测量时间为1min，分辨率为4cm-1）>60,000 获得一个全谱的最小时间小于，具有1 基于Ge的多层涂层CaF2分束器 辐射源是卤素灯 InGaAs光电二极管检测器Si光电二极管 比色皿隔间的尺寸，150x190x170mm 外形尺寸,520x370x250mm 重量， 28公斤。

它用于研究用KBr压缩成小直径片剂的样品（该方法便于粉状物质的光谱分析-前缀允许您使用手动压力机使用少量样品来制造片剂）。 *聚焦光斑直径小于3毫米 *设计中使用抛物面镜光学 *窗口-基板可以放置在前缀后，糊状，液体物质或提取物施加到他们，然后干燥的层 *使用有限–用于研究尺寸小于5毫米的整个样品（最好使用垂直型微聚焦附件）

为了在FSM光谱仪中安装CFK类型的石英比色皿，使用DC CFK支架，其具有标准的50x75mm连接杆，用该连接杆将其插入红外傅里叶光谱仪FSM的PK50-75比色皿的

单通和多通比色皿用于气体混合物的定性和定量分析。 多通比色皿的使用使得可以自信地检测所研究气体中极小浓度的组分（小于ppm单位）。 •提供三种比色皿: 1. 单通道，行程长度为100毫米，玻璃体和窗户由ZnSe、KBr、NaCl制成 2. 多通，光束行程长度可达几十米 3. 多通，光束行程长度可达几十米，配有工作腔的加热系统，最高可达200°C和热控制器 多通比色皿具有由石英玻璃制成的透明工作腔；具有金(99.999)涂层的反射镜在IR区域提供至少98%的反射系数；此外，比色皿可配备压力和温度传感器、用于控

设计用于研究各种类型的固体样品，包括光学和半导体材料、宝石和其他任意形状的物体 •样品位于被调查表面的被调查平面上向下，中心光束在样品上的入射角为15° *允许您检查小尺寸的样品（测试区域的直径为1mm） •机顶盒配有一组可更换的膜片支架，用于不同尺寸的样品 •当使用微型压力机时，它允许您检查在由合金钢制成的镜板上滚出的薄层形式的样品（辐射穿过物质层两次，从镜面反射） *不使用：用于研究散装和液体物质

实验室红外傅里叶光谱仪FSM2211专为近红外范围内的定量和定性研究而设计。 它具有光谱BIC分析方法的所有优点：接收数据的信息含量高，测量的速度和准确性，不需要样品的初步准备和人员的特殊培训。 波段在红外吸收光谱中的位置携带关于样品的定性组成的信息，而波段的强度允许其定量分析，即确定相应组分的浓度（或其它性质）。 这是使用校准模型完成的，该模型是吸收指数（透射）和组分浓度（样品的性质）之间的关系。 根据校准的结果预先计算校准模型，该校准模型包括用已知的（通过标准化学方法建立的）组分浓度或其他已知性质配准一批样品的光谱。 FSM2211光谱仪基于具有自补偿功能的迈克尔逊型干涉仪，不需要动态调整。

Prefix旨在与IR傅里叶光谱仪FSM一起测量光谱中近红外区域的散射表面和分散样品的漫反射光谱。

它用于快速分析各种类型的固体和液体样品，包括聚合物颗粒、薄膜和纤维、粉状物质、油漆涂层碎片、燃料和润滑剂。 用于对所研究表面进行视觉检查的光学系统的存在增加了75x，确保了在处理小样品时的高效率-薄纤维的碎片，微粒等。 通用夹具配有一个精密杠杆机构，用于快速降低尖端和一个千分尺螺钉，允许您预先设置最佳的压力程度–这确保快速更换样品和测量结果的重复性。 为了方便处理液体和糊状样品，以及在ZDO模式下，可以将夹紧控制台旋转180o。该控制台配有两个可互换的尖端-一个球形工作部件和一个平铰头。 替换表用于登记镜面和漫反射光谱。 样品位于被调查表面的被调查平面上向下，中心光束在样品上的入射角为45°。 该方法用于测定表面光学零件、晶体、薄膜的光谱特性，以及对大型固体物体的吸收光谱进行配准。 在频谱的工作范围内传输，输入信号的%至少为30 配准光谱时推荐的扫描次数为25 25次扫描时的频谱配准时间（分辨率4cm-1），sec30 辐射穿透样品的深度，微米5–15 固体样品的最小面积，mm0.2×0.2 所研究液体的最小体积，ml1 纤维样品的最小尺寸：截面直径/长度，mm0.1/1 衬底晶体材料ZnSe CVD,Ge 聚焦光斑直径，mm1 Zdo模式下辐射（中心光束）在样品上的入射角45o 微透镜的放大倍数/视觉通道的总放大倍数4X/75X 光学系统的视场，mm2X2.5 数码摄像机分辨率640x480 外形尺寸,mm150×150×260 重量,kg2.15 *允许您研究小尺寸的物体（从200微米-取决于材料的几何形状，表面质量和物理化学性质） *附件允许您在没有样品准备的情况下工作，使用配备颜色指示器的夹具固定调整样品上的压力 •由于带有NPVO元件的可拆卸法兰，提供了快速方便的样品更换和晶体表面清洁 •在给定的最佳接触力下，由于物质层的厚度不影响光谱的形状和吸收带的强度，该方法提供了高质量和可重复性的结果 *样品保留其原始物理和化学性质，如有必要，可以通过其他方法进一步研究

控制台设计用于在透射或反射模式下控制直径达200mm的半导体晶片的参数。 板材的参数通过高度敏感的非接触式方法在操作员指定的点进行控制。