Устройство управления акустооптическим монохроматором

Напольные установки имеют следующие параметры: тип плазмы - низкочастотную или высокочастотную; частота генератора - 40 кГц / 13,56 МГц; мощность генератора - 50 - 1000 кВт; материал камеры - кварцевое стекло, нержавеющая сталь, алюминий; объем камеры - 5 - 100 л; форму камеры - цилиндрическая/ прямоугольная; количество газов - от 1 до 3 шт; подача газов - цифровой регулятор газов; масса - 200-250 кг; питание - 380 В, 3 фаза.

Настольные установки имеют следующие параметры: тип плазмы - низкочастотную или высокочастотную; частота генератора - 40 кГц / 13,56 МГц; мощность генератора - 50 - 100 кВт; материал камеры - кварцевое стекло, нержавеющая сталь, алюминий; объем камеры - 2 - 24 л; форму камеры - цилиндрическая/ прямоугольная; количество газов - от 1 до 3 шт; подача газов - цифровой регулятор газов; масса - 40-50 кг; питание - 220 В, 1 фаза.

БИИ-10отр создан МГТУ им. Н.Э. Баумана в рамках Федерального проекта «Развитие отечественного приборостроения гражданского назначения для научных исследований». БИИ-10отр – это бессеточный ионный источник с расходящимся пучком, предназначенный для использования в процессах ионного травления, очистки и ассистирования. Источник снабжён контуром водяного охлаждения и способен работать практически на любом газе при мощности разряда до 3,0 кВт с током разряда до 10 А и напряжением до 300 В. Благодаря применению конструктивной схемы с отражателем (end-Hall) БИИ-10отр характеризуется повышенными токовыми и энергетическими параметрами ионного пучка. Ионный источник поставляется с двумя вариантами катода-нейтрализатора (нить накала и «плазменный мост») и специализированной системой питания и управления.

БИИ-5СО создан МГТУ им. Н.Э. Баумана в рамках Федерального проекта «Развитие отечественного приборостроения гражданского назначения для научных исследований». БИИ-5СО – это бессеточный ионный источник с расходящимся пучком, предназначенный для использования в процессах ионного травления, очистки и ассистирования. Источник снабжён контуром водяного охлаждения и способен работать практически на любом газе при мощности разряда до 1,5 кВт с током разряда до 5 А и напряжением до 300 В. Благодаря применению конструктивной схемы с анодным потенциалом задней стенки разрядной камеры БИИ-5СО прост в обслуживании и характеризуется сниженной эрозией рабочих поверхностей. Ионный источник поставляется с двумя вариантами катода-нейтрализатора (нить накала и «плазменный мост») и специализированной системой питания и управления.

БИИ-5БО создан МГТУ им. Н.Э. Баумана в рамках Федерального проекта «Развитие отечественного приборостроения гражданского назначения для научных исследований». БИИ-5БО – это бессеточный ионный источник с расходящимся пучком, предназначенный для использования в процессах ионного травления, очистки и ассистирования. Источник не имеет контура охлаждения и способен работать практически на любом газе при мощности разряда до 0,4 кВт с током разряда до 5 А и напряжением до 300 В. Благодаря применению конструктивной схемы с отражателем (end-Hall) БИИ-5БО характеризуется повышенными токовыми и энергетическими параметрами ионного пучка. Ионный источник поставляется с двумя вариантами катода-нейтрализатора (нить накала и «плазменный мост») и специализированной системой питания и управления.

БИИ-15отр создан МГТУ им. Н.Э. Баумана в рамках Федерального проекта «Развитие отечественного приборостроения гражданского назначения для научных исследований». БИИ-15отр – это бессеточный ионный источник с расходящимся пучком, предназначенный для использования в процессах ионного травления, очистки и ассистирования. Источник снабжён контуром водяного охлаждения и способен работать практически на любом газе при мощности разряда до 4,5 кВт с током разряда до 15 А и напряжением до 300 В. Благодаря применению конструктивной схемы с отражателем (end-Hall) БИИ-15отр характеризуется повышенными токовыми и энергетическими параметрами ионного пучка. Ионный источник поставляется с двумя вариантами катода-нейтрализатора (нить накала и «плазменный мост») и специализированной системой питания и управления.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Камера пыли предназначена для испытания оборудования, приборов, устройств, деталей и комплектующих на возможность проникновения пыли внутрь их конструкции. С помощью испытательной камеры воспроизводятся условия воздействия пыли, и на основании этого процесса образцу присваивается стандарт уровня защиты, что будет свидетельствовать о возможности его эксплуатации в сложных окружающих климатических условиях. Испытательная камера может быть разработана и реализована согласно всем вашим требованиям и с учетом всех требуемых международных стандартов. Камера производится из прочного алюминиевого профиля. Она имеет размеры в 1000×1000×1000 мм (высота, ширина, длина) и может работать в статическом, а также динамическом режимах. А встроенная фильтрационная система позволяет автоматически производить оценку пыли взвеси внутри агрегата. Установка состоит из испытательной камеры, вентиляционной системы, вакуумной системы и встроенного блока управления, а также отдельного канала для калибровки пылевзвеси. Пылевая камера используется в испытаниях на соответствие индекса IPX 5 и 6. ГОСТ 14254-96

Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Измеритель лазерной мощности с сенсором теплового типа для мощности от 200 мВт до 120 Вт. Автономный дизайн с пассивным охлаждением и возможностью проводного подключения к ПК и беспроводного вывода данных на Android смартфон. Ключевые особенности - Готовая измерительная система в едином корпусе, не требующая подключения консоли и внешнего питания. - Быстрый вывод данных в приложение на смартфон или ПК, полноценный контроль без специальных устройств. - Широкий диапазон измеряемой мощности, спектральный диапазон совместимый с большинством современных лазеров, размер апертуры, позволяющий производить измерения без подготовки пучка, в любом месте оптической системы. Программное обеспечение - Быстрое и простое подключение устройств без необходимости сопряжения – приложение автоматически выполняет поиск совместимых подключённых устройств; - Детальный вывод показаний и индикация состояния, запись результатов измерений, управление параметрами; - Открытые протоколы управления и данных, интеграция в рабочие процессы, поддержка и обновления. Комплект поставки: Измеритель, защитная крышка с разметкой, бленда, провод USB Type-C на USB Type-A, руководство пользователя, сертификат калибровки, протокол калибровки.

Готовая измерительная система в едином корпусе не требующая подключения консоли и внешнего питания; Быстрый вывод данных в приложение на смартфон или ПК, полноценный контроль без специальных устройств; Широкий диапазон измеряемой мощности, спектральный диапазон совместимый с большинством современных лазеров, размер апертуры, позволяющий производить измерения без подготовки пучка, в любом месте оптической системы. Быстрое и простое подключение устройств без необходимости сопряжения – приложение автоматически выполняет поиск совместимых подключённых устройств; Детальный вывод показаний и индикация состояния, запись результатов измерений, управление параметрами; Открытые протоколы управления и данных, интеграция в рабочие процессы, поддержка и обновления. Комплект поставки: Измеритель, защитная крышка с разметкой, бленда, провод USB Type-C на USB Type-A, руководство пользователя, сертификат калибровки, протокол калибровки. Технические характеристики: Охлаждение Пассивное Вес 300 г Спектральный диапазон 0.5–2.5 мкм, 10.6 мкм Крепление Отверстие с резьбой М6х1.0 глубиной 12 мм Программное обеспечение Windows 10/11, Linux Android 10 и выше Аккумулятор Li-Pol, 500 мАч с защитой Диаметр апертуры Ø 12 мм Габаритные размеры 55 мм × 55 мм × 40 мм Защита от перегрева Встроенный датчик температуры Диапазон мощности 20 мВт – 2 Вт Предельная плотность мощности 0.75 кВт/см2 Постоянная времени 2.5 с Погрешность калибровки мощности ±3 % Интерфейс вывода данных USB Type-C 3.1 Bluetooth LE 5.0 Время автономной работы Не менее 6 часов