Установка плазменной активации поверхности GD156R

Система GD156R представляет собой универсальную установку плазменной обработки и активации поверхности и предназначена для подготовки образцов к исследованиям методами электронной микроскопии.
Плазменная очистка — это предварительная обработка поверхности перед исследованиями поверхности образцов, анализом состава вещества, нанесением фоторезиста, вакуумным напылением слоев, пайкой или микросваркой.
В процессе плазменной очистки поверхность материала подвергается химической реакции с ионизированными газами. Свободные радикалы газа взаимодействуют с загрязнением на поверхности, преобразуются в газовую фазу и далее удаляются. Такой способ позволяет достичь прецизионной очистки чувствительных поверхностей, что повышает ее адгезию.
Другой задачей применения плазменной обработки является активация поверхности с помощью плазмы. Время обработки в большинстве случаев составляет несколько минут. Качество активации может проверяется тестовыми чернилами.
Плазменная очистка металлов применяется для получения поверхности, не содержащей оксидов.
Прибор предназначен для работы с широким спектром образцов, обеспечивает их простую загрузку и выгрузку. Система полностью автоматизирована, пользователь может задать алгоритм работы, включающий стадии откачки, дегазации, настроить рабочее давление, напряжение, ток, время обработки.
Другие модели серии 156:
Система напыления углерода с форвакуумным насосом C156RE;
Система напыления углерода с турбомолекулярным насосом C156TE;
Система напыления металлов с форвакуумным насосом C156RS;
Система напыления металлов с турбомолекулярным насосом C156TS.