Поиск

Установка предназначена для работы в помещениях исследовательских, строительных и заводских лабораторий при температуре +10…+40ºС.Диапазон задаваемого избыточного давления, МПа от 0 до 1,2 от 0 до 2,0 Давление воды на ступенях нагружения, МПа 0,2; 0,4; 0,6; 0,8; 1,0; 1,2 0,2; 0,4; 0,6; 0,8; 1,0; 1,2; 1,4; 1,6; 1,8; 2,0 Основная относительная погрешность поддержания давления на ступени нагружения, % 3 Количество образцов одновременно устанавливаемых в установке, шт. 6 Диаметр бетонных образцов, мм 150 Диаметр открытых торцевых поверхностей бетонных образцов, мм 130+51 Допускаемая высота образцов, мм 30; 50; 100; 150* Диапазон временных интервалов задаваемых на каждой ступени нагружения, мин 0÷30; 240; 360; 720; 960 Габаритные размеры установки (длина, ширина, высота), мм, не более 750x450x1240 Масса установки, кг, не более 120 Водоснабжение оборотное. Объем жидкости заливаемой в бак, л 10 Установленная мощность, кВт 1,5 Напряжение питания, В 220

Установка комплектуется одним испарителем для нанесения резистивных сплавов, двумя испарителями для нанесения металлических слоев и источником ионной очистки.

Напряжение выходного сигнала синусоидальной формы (низкочастотный выход) 10–400 В, 20 Гц–20 кГц Максимальная выходная мощность 40 Вт Относительная погрешность частоты по низкочастотному выходу не более ±10-5 Абсолютная погрешность напряжения по низкочастотному выходу не более ±1 В Коэффициент нелинейных искажений по низкочастотному выходу не более 2 % Напряжение выходного сигнала прямоугольной формы (высокочастотный выход) 1 В, 20 Гц–100 МГц Относительная погрешность частоты по высокочастотному выходу в диапазоне 20 Гц–25 кГц не более ±10-5 25 кГц–100 МГц не более ±10-8 Напряжение по высокочастотному выходу и выходу 10 МГц для калибровки ±1 В±50 % Время установления рабочего режима 1,5 мин. Время прогрева после включения не менее 30 мин. Напряжение питания 220±22 В, 50±5 Гц Потребляемая мощность не более 200 ВА Допустимая продолжительность непрерывной работы 8 ч Масса не более 25 кг Габаритные размеры (длина×ширина×высота) не более 500×400×200 мм Диапазон рабочих температур 10–35 °С Средняя наработка на отказ не менее 10 000 часов Срок службы до списания не менее 10 лет.

Система для масс-спектрометрического анализа "АЛМАСС Био 200" предназначена для быстрой идентификации микроорганизмов. Идентификация микроорганизмов по молекулярному «отпечатку пальцев». Система сочетает в себе лучшие разработки в области МАЛДИ масс-спектрометрической идентификации микроорганизмов. Биоинформационные алгоритмы программного обеспечения обеспечивают надёжную и точную видовую идентификацию микроорганизмов путём сопоставления получаемых масс-спектров с обширной базой данных. Идентификация происходит по уникальному для каждой культуры белковому спектру: рибосомальные белки являются специфичными для микроорганизмов. Характеристики: https://algimed-techno.com/catalog/almass/almass-bio-200/

Установка предназначена для нанесения износостойких упрочняющих и коррозийностойких покрытий на металлические детали ионно-плазменным методом. Установка используется для улучшения эксплуатационных характеристик различных видов инструментов применяемых для металлообработки.

Технология GrowPillar расширяет возможности сити-фермеров по выращиванию свежей зелени, максимально используя все доступное пространство. Наиболее экономически оправданная технология вертикального выращивания для коммерческих теплиц и крытых ферм! GrowPillar - это башни-модули для вертикального выращивания методом гидропоники, которые легко перемещать и обслуживать, что позволяет создать вертикальную ферму с высокой плотностью посадки. Технология GrowPillar подходит для организации коммерческого выращивания большинства видов зелени. Корпуса вертикальных башен изготовлены из жесткого и качественного материала, безопасного для пищевой продукции. Внутри расположен высокотехнологичный субстрат, позволяющий растениям с легкостью насыщаться питательным раствором. Размеры башни 90х90 мм в сечении и 2000 мм в длину. Возможны и другие размеры под ваши задачи и параметры помещения!

Предназначена для нанесения сверхтвердых покрытий различных металлов и их соединений, а также алмазоподобных пленок на основе аморфного углерода и может быть использована для улучшения эксплуатационных характеристик различных видов инструментов, применяемых для металлообработки, деталей узлов трения, изделий микромеханики, а также для формирования биофункционального покрытия на изделия медицины.

Высокая производительность установки обеспечивает возможность ее использования для серийного производства изделий микроэлектроники. Установка комплектуется двумя магнетронами и источником ионной очистки.

Установка «Оратория 29М» обеспечивает: • безмасляную вакуумную откачку на базе криогенного насоса; • автоматическую загрузку пластин на конвейер из кассеты и выгрузку пластин в кассету, счет загружаемых и выгружаемых пластин, световую и звуковую сигнализацию об окончании загрузки и выгрузки пластин; • ручное управление скоростью конвейера, током нагревателя пластин; • работу трех магнетронов в диапазоне мощности от 2 до 6 кВт.; • работу радиочастотного плазменного генератора РПГ-250; • исключение «человеческого фактора» при проведении техпроцесса нанесения покрытий и минимизация возможности получения брака; • повторяемость характеристик покрытий из загрузки в загрузку; • корректировку, при необходимости, параметров режима во время процесса без его останова («ручной режим»); • возможность создавать любые новые техпроцессы самостоятельно; • протоколирование техпроцессов, позволяющее технологу проводить контроль и оперативное выявление причин возникновения брака в производстве покрытий; • непрерывный мониторинг оборудования и управление его работой при возникновении аварийных ситуаций; • диагностику и регистрацию параметров функционирования основных систем оборудования, что позволяет оперативно находить возникающие неполадки и неисправности.

Типы машин: МСВ-10/1МГ4М МСВ-10/2МГ4М МСВ-50/1МГ4М МСВ-50/2МГ4М МСВ-100/1МГ4М МСВ-100/2МГ4М МСВ-200/1МГ4М Дискретность, Н (кН) 0,01 (0,00001) Пределы допускаемой относительной погрешности, % ±0,02 Колебание нагрузки в заданной точке, Н (кН), не более 0,03 (0,00003) Скорость изменения нагрузки, кН/с 0,001 ... 1 Время выхода на заданное усилие (ступень), с, не более 30 Время удержания нагрузки в заданной точке, мин, не менее не ограничено.

Установка оснащена автономной системой оборотного водоснабжения, а также модемом, позволяющим осуществлять дистанционное управление технологическим процессом, осуществлять настройку онлайн и передавать данные о неисправности в службу поддержки.

Установки радиационные поверочные нейтронного излучения серии УРПН-РМ9200 предназначены для автоматизированной поверки, калибровки, градуировки и испытаний средств измерений нейтронного излучения с помощью воспроизведения и передачи единиц плотности потока нейтронного излучения, мощности амбиентного эквивалента дозы и мощности индивидуального эквивалента дозы нейтронного излучения. Установки с комплектом источников нейтронного излучения обеспечивают создание поля нейтронного излучения быстрых и тепловых нейтронов в коллимированном пучке, а также формирование поля нейтронов в открытой геометрии. В установках применяются закрытые радионуклидные источники нейтронного излучения из 238Pu-Be, 239Pu-BE, 241Am-Be и 252Cf. Установка выпускается в трех модификациях, которые отличаются облучателями. Технические характеристики Мощность амбиентного эквивалента дозы нейтронного излучения (МАЭД), мкЗв/ч 3,5 – 3,4·104 Доверительные границы относительных погрешностей установок при доверительной вероятности 0.95 должны быть не более при воспроизведении единиц плотности потока нейтронов 5% при воспроизведении единиц МАЭД и МИЭД 7% Плотность потока быстрых нейтронов, с-1∙см-2 2,5 – 24,0·103 Плотность потока тепловых нейтронов, с-1∙см-2 1,0 – 5,6·103 Габариты и масса облучателя 2550x730x700 мм, 190 кг Максимальная активность применяемых источников, поток быстрых нейтронов в телесный угол 4 π ср, c^{-1} 252Cf 5x108 238Pu-Be 5x107 239Pu-Be 1x107 241Am-Be 5x107 Максимальная активность применяемых источников, при создании широкого пучка нейтронов в «открытой» геометрии 1x109 Максимальные геометрические размеры применяемых источников, Øхh, мм 35х45 Мощность индивидуального эквивалента дозы (МИЭД), мкЗв/ч 3,5 – 3,4·104 Количество источников до 4 шт. Уровень собственного радиационного фона установки при использовании источника с максимальной активностью находящимися, в положении “хранение” на расстоянии 1 м от поверхности облучателя, мкЗв/ч, не более по суммарному излучению (гамма и нейтронному) 1,0 Время перевода источника из положения хранения/рабочего в положение рабочее/хранения не более, сек 15 Суммарный поток быстрых нейтронов от источников, размещенных в облучателе установки не должен превышать, с-1 1x109 Масса приборов, устанавливаемых на рабочем столе, не более, кг 70.