Поиск

Характерные особенности: Обеспечивает высокоточное разделение проб сыпучих материалов на одинаковые по массе и составу малые фракции при стабильном исходном питании. Возможно подключение к сети 220 В или 380 В (в зависимости от пульта управления). Примеры материалов: Любые сухие сыпучие материалы: ферросплавы, руды, гранит, грунт, песок, уголь, стекло, металлические порошки, минералы, песок, почва, стройматериалы и пр. Техническая характеристика АВД Крупность исходного питания, мм, не более 20 Производительность, кг/ч 20-100 Полный объем всех пробоприемников, дм3 10 Степень сокращения 1/2...1/8 Мощность привода, кВт 0,25 Габаритные размеры, мм Длина 550 Ширина 900 Высота 1020 Масса, кг 150.

Дробилка предназначена преимущественно для измельчения хрупких и малоабразивных материалов, а также различных волокнистых материалов, промышленных и бытовых отходов, сельскохозяйственного сырья и подобных материалов. Техническая характеристика МД 3х2с Крупность исходного материала, мм, не более 50** Диаметр ротора, мм 300 Длина ротора, мм 200 Размер ячейки колосниковой решетки*, мм 3 - 20 Частота вращения ротора, об/мин 1000 - 3000 Мощность привода, кВт 4,0 Габаритные размеры, мм Длина 926 Ширина 690 Высота 1204 Масса, кг 190.

Дробилка предназначена преимущественно для измельчения хрупких и малоабразивных материалов, а также различных волокнистых материалов, промышленных и бытовых отходов, сельскохозяйственного сырья и подобных материалов. Техническая характеристика МД 4х3 Диаметр ротора, мм 400 Длина ротора, мм 300 Крупность исходного материала, мм, не более 100** Размер ячейки колосниковой решетки*, мм 3-16 Частота вращения ротора, об/мин 1000 Мощность привода, кВт 7,5 Габаритные размеры, мм Длина 1220 Ширина 770 Высота 1245 Масса, кг 510.

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей - пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов. Система плазменной активации поверхности GD156R нашей разработки и производства - это настольный прибор, позволяющий производить плазменную очистку и активацию поверхности с целью исследования образцов методом электронной микроскопии и получения изображения высокого качества. Пробоподготовка образцов к исследованиям методами ЭМ Система GD156R представляет собой универсальную установку плазменной обработки и активации поверхности и предназначена для подготовки образцов к исследованиям методами электронной микроскопии. Плазменная очистка — это предварительная обработка поверхности перед исследованиями поверхности образцов, анализом состава вещества, нанесением фоторезиста, вакуумным напылением слоев, пайкой или микросваркой. В процессе плазменной очистки поверхность материала подвергается химической реакции с ионизированными газами. Свободные радикалы газа взаимодействуют с загрязнением на поверхности, преобразуются в газовую фазу и далее удаляются. Такой способ позволяет достичь прецизионной очистки чувствительных поверхностей, что повышает ее адгезию. Другой задачей применения плазменной обработки является активация поверхности с помощью плазмы. Время обработки в большинстве случаев составляет несколько минут. Качество активации может проверяется тестовыми чернилами. Плазменная очистка металлов применяется для получения поверхности, не содержащей оксидов. Прибор предназначен для работы с широким спектром образцов, обеспечивает их простую загрузку и выгрузку. Система полностью автоматизирована, пользователь может задать алгоритм работы, включающий стадии откачки, дегазации, настроить рабочее давление, напряжение, ток, время обработки. Что входит в систему: - базовый блок с управляющей электроникой; - магнетрон; - вакуумная система с форвакуумным насосом; - предметный столик Ø100 мм с вращением; - большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла; - сенсорный экран управления 7″; - программное обеспечение API156 на русском языке; - книга «рецептов» по обработке. Тех. характеристики: - Характеристики вакуумной камеры: внутренний диаметр - 156 мм, высота - 100 мм, производительность насоса - 19,8 м3/ч - ​Диапазон давления: 1000 мбар – 10-3 мбар (форв. насос) / 1000 мбар – 10-9 мбар (турбонасос) ​ - Измерение толщины покрытия с помощью кварцевых весов - ​Сохранение и загрузка пользов. рецептов >1000 шт - ​Габариты и вес (без опций) 450х300х400 мм, 22 кг

Штатив для электродов pH-метров, иономеров, кондуктометров и титраторов Лабораторный штатив предназначен для фиксации измерительных электродов, датчиков температуры и дозирующих трубок при проведении электрохимических измерений и титрования. Совместим с большинством pH-электродов, ионоселективных электродов, электродов сравнения и датчиков температуры отечественного и зарубежного производства. Конструкция держателя позволяет одновременно устанавливать до 4 электродов. Для цилиндрических электродов без конического шлифа предусмотрены специальные адаптеры. Регулировка высоты держателя обеспечивает удобное позиционирование электродов относительно образца. Штатив имеет разборную конструкцию, удобную для хранения и транспортировки. Высота стойки 350 мм обеспечивает комфортную работу с лабораторной посудой различного объема и позволяет использовать штатив при выполнении большинства стандартных лабораторных измерений

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей - пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов. Настольный прибор, позволяющий наносить тонкие пленки металлов (Au, Ag, Pt, Cr и др.) или углерод на поверхность образца методом магнетронного распыления с целью исследования методом электронной микроскопии и получения изображений высокого качества. Финальным шагом в подготовке образцов для исследований методами электронной микроскопии является нанесение покрытия из проводящих материалов. Этот шаг необходим в первую очередь для того, чтобы избежать скопления заряда на образце в процессе исследования, который существенно снижает качество получаемого изображения. Напыляемыми материалами в числе прочих могут быть золото, платина, палладий, углерод и др. Золотое и платиновое напыления в большинстве случаев используются для исследований биологических образцов в высоком разрешении, в то время как углеродное покрытие более применимо для пробоподготовки твердых материалов, таких как металлы или минералы. Техники покрытия также могут быть различны: нанесение тонких пленок металлов на поверхность образца методом магнетронного распыления, а также углерод методом термического резистивного импульсного испарения. Что входит в систему: - базовый блок с управляющей электроникой; - магнетрон и испаритель с держателем углеродного стержня; - вакуумная система с форвакуумным насосом; - предметный столик Ø100 мм с вращением; - большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла; - сенсорный экран управления 7″; - программное обеспечение на русском языке; - книга «рецептов» напыления; - стартовый набор расходных материалов. Тех. характеристики: - ​Диапазон давления: 1000 мбар – 10⁻³ мбар (форв. насос) / 1000 мбар – 10-9 мбар (турбонасос) ​ - Измерение толщины покрытия с помощью кварцевых весов - ​Сохранение и загрузка пользов. рецептов >1000 шт - ​Габариты и вес (без опций) 450х300х400 мм, 22 кг