Поиск

OptiCounter - это прибор для бесконтактной оценки концентрации клеток в культуральном флаконе. Для этого флакон с клетками просвечивается лучом лазера, а специально расположенные сенсоры собирают рассеянный свет. Интенсивность сигналов на датчиках позволяет сделать выводы о скорости роста культуры. Для измерений флакон не нужно открывать, а данные передаются по беспроводной связи. Поэтому прибор можно использовать для мониторинга роста клеточных культур непосредственно в инкубаторе. Если вам надоело использовать счётчик клеток или измерять оптическую плотность каждые полчаса - то стоит попробовать OptiCounter. Прибор имеет высокую чувствительность, что позволяет работать даже с оптически прозрачными клетками. В данный момент версия для постоянного мониторинга доступна для предзаказа, а прибор в настольном исполнении уже доступен - его можно приобрести или потестировать для своих задач бесплатно! И даже нужно - ведь нам, разработчикам прибора, очень важна обратная связь.

Промышленный беспилотный винтокрыл Optiplane – это компактный, электрический беспилотник, который сочетает преимущества коптера и беспилотного самолета: с одной стороны, осуществляет полет полностью автоматически от взлета до посадки, как коптер, с другой стороны имеет увеличенную дальность полета. С помощью одного беспилотного винтокрыла Оптиплейн возможно охватить геодезической аэрофотосъемкой площадь до 1000 Га в день, тогда как обычный электрический коптер – не более 300-400 Га, а беспилотный самолет требует обязательного присутствия профессиональной летной бригады, что удорожает проведение летных работ до 5 раз. Аппарат разработан для нужд агросектора, энергетики, дорожного хозяйства, работ по геодезии, маркшейдерии, а также и для мониторинга и контроля над различными процессами в сфере безопасности и экологии. Винтокрылы Оптиплейн проитенгрированы с различными видами актуальной полезной нагрузки: ГНСС приемник, камера, тепловизор, лидар и др.

Большое количество капилляров в ПКК позволяет разделять сравнительно большие объемы пробы, что обеспечивает высокую чувствительность анализа. А малый диаметр капилляров колонки дает возможность проводить быстрое разделение. Номинальный диаметр капилляров ПКК 40, 60 и 80 мкм, их количество в стержне более 1200, 1700 и 2100 штук, соответственно. Длина прямых ПКК от 40 до 250 мм. Прямые ПКК могут быть вставлены в защитную стальную трубку (кожух) с герметизацией силиконовым герметиком. Неподвижные фазы толщиной от 0,1 до 0,8 мкм SE-30, OV-1, SE-54, OV-5, OV-20, OV-35, OV-17, OV-1301, OV-1701, SKTFT-50X, OV-215, OV-225, Carbowax-20 M. Типичное время разделения менее 1 минуты. Минимальная ВЭТТ на неполярных неподвижных фазах для веществ с фактором удерживания k > 10 около 2 диаметров капилляра. Специальная ПКК "MCC-BTEX" предназначена для анализа загрязнений воздуха легкими ароматическими углеводородами при детектировании фотоионизационным детектором. Она позволяет определять ароматические углеводороды - бензол, толуол, этилбензол, ксилолы (BTEX) в пробе за время менее 1,5 минут.

Универсальный блок независимо от типа присоединения, с возможностью комплексно охватить объекты 6-35 кВ, со встроенной подпиткой от токовых цепей и цепями дешунтирования, дуговой защитой, при этом в компактных габаритах и с одинаковыми посадочными размерами для всей серии, выгодой до 30%, гарантией 10 лет и максимально отзывчивой технической поддержкой Микроконтроллерное устройство защиты предназначено для выполнения функций релейной защиты, автоматики, управления и сигнализации присоединений напряжением 6-35 кВ на подстанциях с переменным, выпрямленным переменным и постоянным оперативным током. Блок обеспечивает функции защиты и автоматики воздушных и кабельных линий электропередачи, выключателей распределительных устройств, реклоузеров, трансформаторов мощностью до 6,3 МВА и электродвигателей мощностью до 4 МВт. Функциональные особенности: Комплексный охват объекта 6-35 кВ с реализацией необходимого функционала; Универсальный блок независимо от типа присоединения (ОЛ, ВВ, СВ, ТН); Возможность подобрать оптимальную конфигурацию; Дискретные входы/выходы: от 4/4 до 25/16; Компактные размеры; Одни посадочные размеры для всех устройств серии; Возможность питания от вторичных цепей трансформаторов тока; Наличие цепей дешунтирования; Цепи тока и цепи напряжения; Встроенная дуговая защита; Интерфейсы связи USB и RS485; Осциллографирование; Поддержка протокола Modbus RTU; Изменение уставок при отсутствии оперативного питания; Встроенный регистратор параметров нагрузки; Бесплатное мобильное приложение и программное обеспечение. Встроенное программное обеспечение SW_MIKRO20_R2 интегрировано и поставляется потребителю вместе с устройством. Установка программного обеспечения производится только на заводе-изготовителе. Стоимость встроенного ПО включена в стоимость. Эксплуатация встроенного ПО без устройства невозможна. Позволяет реализовать: Базовые функции защиты (ТО, МТЗ, ЗЗ, ЗНФ, ЗМН, АПВ). Количество дискретных входов/выходов: 4/4 Особенности модификации: Одно из лучших бюджетных решений на рынке РЗА по критерию «цена-функционал». Область применения: ВЛБ КТП ячейки ЯКНО распределительные устройства 6-10 кВ камеры КСО реклоузеры и пункты секционирования

Планетарная шаровая мельница "Активатор 2SL" - лабораторный прибор для измельчения, перемешивания, ультратонкого диспергирования, механоактивации, механического легирования и механохимического синтеза различных материалов. Сочетание высоких ускорений мелющих тел и водяного охлаждения барабанов, позволяет как сократить время обработки материала при измельчении за счет высокой интенсивности воздействия, так и проводить качественный механохимический синтез в течение длительного времени без перегрева материала за счет водяного охлаждения. Также благодаря водяному охлаждению отсутствует необходимость производить обработку интервалами, с ожиданием снижения температуры, а в дополнение к этому, после обработки отсутствует необходимость длительного ожидания остывания барабанов до нормальной рабочей температуры. Расшифровка названия: Активатор - наименование завода изготовителя, 2 - количество одновременно устанавливаемых барабанов, S - малый типоразмер, L - (light) облегченная версия планетарной мельницы "Активатор 2S", с изменяемым соотношением скоростей вращения. Отличительные особенности планетарной мельницы 2SL от других моделей планетарных мельниц "Активатор" - типоразмер позволяющий устанавливать 2 барабана по 250 мл (максимальный объем), а также ускорения мелющих тел до 130G. Технические характеристики подробно представлены на сайте производителя: https://activator.ru/Ac2SL.html

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Предназначена для проведения процессов вакуумной термообработки: спекание, выращивание кристаллов из расплава, самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС) азотированных керамических и металлокерамических материалов, ферросплавов, интерметаллидов тугоплавких металлов, а также для вакуумной пайки инструментов из сплавов и сверхтвердых материалов, закалки, отжига, дегазации. Печь позволяет выполнять высококачественную бездефектную вакуумную пайку и пайку в специальной атмосфере (технологическом газе или вакууме), высокотемпературный отжиг выращенных плёнок силовых приборов и изделий микроэлектроники; Вакуумные печи широко используются в атомной, электронной, авиационной и других отраслях промышленности. Печь EPOS- VACFURN -2000 c вертикально расположенной вакуумной камерой колпакового типа, с опускающимся механизированным подом и вертикальной загрузкой материалов и полуфабрикатов, устанавливается на раму с декоративными, легкосъемными панелями. Источник питания и пульт управления расположены в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение глубокого вакуума (в холодном состоянии – не хуже 1·10-3 Па). Печь оснащена рубашкой охлаждения, системой жаростойких экранов и нагревателями на основе вольфрама и максимально проста в эксплуатации. Вакуум-герметичная конструкция и тщательный контроль газовых потоков позволяют проводить нагрев в атмосфере высокой чистоты в различных инертных, восстановительных газов и их смесей. Особенности • Полная автоматизация установки: управление вакуумными агрегатами, мощностью нагревателей, подачей газов, а также электромеханическими элементами. • Нагревательные элементы и зона нагрева выполнены из вольфрама, что позволяет нагревать изделия до 2000 °C.; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме; • Материалы, использованные для изготовления тепловых экранов - молибден, вольфрам и жаростойкая нержавеющая сталь; • Экраны крышек выполнены таким образом, что образуют тепловой замок; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию; • В установке реализована возможность работы в среде инертных газов, формир-газа и их смеси; • Типичная загрузка обрабатываемого материала до 5 кг; Преимущества Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 2000°C. При этом реализованы 2 варианта настройки программы работы печи: • по температуре нагревателя (OTC), температурный сенсор в области нагревателя; • по температуре загрузки (STC), температурный сенсор в зоне нагрева над загрузкой. Точность определения температуры печи и зоны нагрева определяется классом точности термопары (ТВР А1); Точность поддержания температуры в изотермическом режиме +/- 5С; Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора; При проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов;

Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Печь EPOS-VACFURN-DESK-1300 c вертикально расположенной вакуумной камерой, с поднимающимся с помощью ручного привода колпаком камеры. Источник питания и управления расположен в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение вакуума лучше 1,3·10-2 Па (в холодном состоянии). Печь оснащена рубашкой охлаждения, высокотемпературным нагревателем и предельно проста в эксплуатации. Опционально возможна установка регулятора расхода газов для проведения нагрева в атмосфере высокой чистоты различных инертных, восстановительных газов и их смесей. ОСОБЕННОСТИ • Конструкция и материалы нагревательных элементов и зоны нагрева позволяет нагревать изделия до 1250 °C кратковременно и 1200 °C длительно с термопарой типа К, и 1300 °C с термопарой типа N; • Прозрачное окно на колпаке камеры позволяет визуально контролировать процессы в рабочей зоне; • Полностью безмасляная откачка; • Конструкция кронштейна обеспечивает удобный подъем колпака и отвод его в сторону для удобства смены образцов, а также препятствует опрокидыванию камеры. • Предельные габаритные размеры обрабатываемых образцов 60х60х60; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме с помощью ПИД-регулятора; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Пошаговое ПИД-регулирование – 3 программы технолога по 5 шагов; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева, обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию. ПРЕИМУЩЕСТВА Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 1300°C. Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов при проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами, чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора. Возможность заказа печи с различной системой высоковакуумной откачки и без нее, а также дополнительная опция с установкой регулятора расхода газов, позволяют расширить возможности и сконфигурировать печь непосредственно для Ваших задач.

Измеряется величина тока на электрод, помещенный в плазму, в зависимости от величины приложенного пилообразного напряжения, то есть определяется зондовая вольтамперная характеристика (ВАХ). ВАХ позволяет определить локальные, в области нахождения электрода, параметры невозмущенной плазмы. При помощи встроенного математического аппарата вычисляется плотность плазмы и оценивается ее температура на основе измеренной ВАХ. Особенности Если в плазму вводятся два малых одинаковых электрода на близком расстоянии, и напряжение подается между ними, зонд Ленгмюра работает в режиме двойного зонда. Такой режим установлен по умолчанию, он позволяет диагностировать параметры высокочастотной или нестационарной плазмы, практически не возмущая её, т.к. электроды полностью гальванически изолированы от разрядной камеры. В режиме одиночного зонда пилообразное напряжение подается на электрод, который введен в плазму, относительно опорного электрода, которым может быть металлическая стенка разрядной камеры. Преимущество Манипулятор позволяет осуществлять аксиальное и радиальное позиционирование датчика в пространстве рабочей камеры и определять распределение концентрации плазмы или оценивать ее однородность. Надежность, техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы.