Поиск

Предназначен для измерения расходы воды, других жидких сред. Работают в составе тепловых узлов учета в жилищно-коммунальных хозяйствах. РУС-1 используются для учета нефтепродуктов (масла, дизельное топливо), сточных вод, пластовых вод высокого давления, жидких пищевых добавок.

Спектрофлуориметр «СОЛАР» обеспечивает высокочувствительные и стабильные измерения в ультрафиолетовой и видимой областях спектра. Прибор применяется для проведения различных исследований в научных лабораториях, промышленных лабораториях, учреждениях здравоохранения, ветеринарии, фармацевтики, экологии, криминалистики и т.п. 4 прибора в одном Высокая точность измерений Выделяемый спектральный интервал – постоянный Автоматическая коррекция спектров Анализ фотонестабильных проб Программная поддержка Измерительные функции: Измерение спектров флуоресценции и фосфоресценции (возбуждения, испускания, синхронных, поляризации, температурных), а также спектров поглощения (пропускания) жидких и твёрдых образцов Измерение хемилюминесценции Определение концентрации образцов по флуориметрическим и фотометрическим методикам с использованием фактора, калибровки по одной точке, многоточечной калибровочной кривой Кинетические измерения на одной, двух, трех длинах волн Измерения относительного квантового выхода Многоволновые измерения люминесценции и поглощения Измерение спектров зависимости флуоресценции и фосфоресценции от температуры Измерение времени жизни фосфоресценции Выводит результаты в 3D спектров.

Прибор предназначен для качественного и количественного анализа газовых сред (анализ углеводородов, экологический мониторинг, криминалистика и медицина), и применим для исследования поглощения углекислого газа различными видами почв, предполагают проведение мониторинга почвенных газов (CO2, N2O, CH4, O2, N2, Ar и C2H4), и точного качественного и количественного анализа парниковых газов в атмосферном воздухе на различных высотах. Представленный комплекс позволит справляться с представленной задачей. Достигать непревзойденные масса-габаритные характеристики, позволяют разработки в области микрофлюидики и сенсорики. На данный момент уже создан задел в области создания хроматографов следующего поколения обладающими метрологией габаритных приборов (35 кг и более), при этом имеющие массу менее 1 килограмма. Прибор проходил тестирование при проведении опытно-методические работы по геохимической съемке, во время которых определялся состав почвенных газов на эталонных объектах Краснодарского края. Уникальные для газовой хроматографии масса-габаритные характеристики (Вес автономного прибора 1,2 – 2,5 кг) позволяют использовать его в составе беспилотных летательных комплексов, что позволяет определять парниковые газы на высоте от 2-х до 500 метров. Основные технические характеристики хроматографа «ПИА»: 1. Предел детектирования по пропану, г/см3: - для микрокатарометра (ДТП) - 3,75×10-9, - для термокаталитического детектора (ДТХ) - 5×10-11 2. Время выхода прибора на режим работы, мин. не более: 20; 3. Диапазон формируемых давлений газа-носителя, кПа.: от 10 до 300 ; 4. Напряжение питания, В: 12±1; 5. Потребляемая мощность без ПЭВМ, В·А не более: 12; 6. Параметры окружающей среды: 6.1. Температура, °С: от 5 до 40; 6.2. Относительная влажность, % не более: 80; 6.3. Атмосферное давление от 84 до 107 кПа; 7. Масса одномодульного хроматографа (без ПЭВМ), кг, не более: 1,2; 8. Габаритные размеры одномодульного хроматографа (без ПЭВМ), мм: 225х150х90;

Характеристики температурной камеры ТК-1200 для дифракционных исследований: Материал корпуса - Нержавеющая сталь Материал рентгенпрозрачных окон - ПМА, графит Рентгенпрозрачность окон (Cu Kα) ~63,5% Материал кюветы - Оксид алюминия Глубина кюветы - 0.2, 0.5, 0.9 мм Вращение образца/Колебание - от 0° до 360° со скоростью от 0°/с до 180°/с Диапазон рабочих температур - от +25°С до + 1200°С Точность определения температуры ±2°С Точность поддержания температуры ±0,5°С Угол дифракции, 2θ - от -1° до 152° Возможность работы в вакууме, давление <10^(-6) бар (вакуумное оборудование поставляется отдельно). Конструкция ТК-1200 позволяет осуществлять контролируемое вращение образца вокруг собственной оси на 360° в плоскости образца, тем самым давая возможность изучить анизотропию внутренних напряжений. Вращение (колебание) самого образца внутри температурной камеры осуществляется за счет шагового двигателя. Опционально возможна установка как на θ-θ гониометр, так и на θ-2θ (горизонтально и вертикально). Для регистрации спектров возможно использование таких детекторов как сцинтиляционный, полупроводниковый, позиционно-чувствительный. Опционально возможно исполнение исполнение данного устройства для работы при различных температурах, механических и электрических воздействиях в разных средах. Возможно изготовление температурных камер в различных исполнениях: ТК-500 (температурный диапазон +25 – +500 °С), ТК-600 (температурный диапазон -160 – +600 °С), ТК-900 (температурный диапазон +25 – +900 °С) , ТК-1500 (температурный диапазон +25 – +1500 °С), а также с различными конструкциями держателя для Ваших образцов.

Назначение: автоматизированное промывание лотков и планшетов с медицинскими и лабораторными растворами

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.