Поиск

По заказу могут быть реализованы следующие опции: •дополнительные реле времени - позволяют разнести по времени команды управления нагрузкой внутри одной очереди •выдача сигналов АЧР/ЧАПВ по одной шинке: появление сигнала - АЧР, пропадание сигнала - ЧАПВ •установка на двери шкафа щитового прибора для измерения •изготовление шкафов других габаритов, конструктивного исполнения и количества очередей разгрузки •изготовление шкафов уличного исполнения.

Назначение Для использования при измерении: · емкости и тангенса угла диэлектрических потерь высоковольтной изоляции (конденсаторов, вводов, трансформаторов, изоляторов) · характеристик частичных разрядов жидких диэлектриков в лабораторных и полевых условиях, в комплекте с измерителем параметров изоляции (например, ПАРМА ТЕНЗОР-2).

Функционал УCВИ(PMU): · поддерживают вычисление и передачу данных в режиме on-line по протоколу С37.118-2011 · имеют два встроенных интерфейса Ethernet для подключения к ЛВС объекта установки · сохраняют данные для последующего доступа по FTP – режим off-line.

Функционал УВИ/PMU · поддерживает вычисление и передачу данных в режиме on-line по протоколу С37.118-2011 · имеет 2 встроенных интерфейса Ethernet для подключения к ЛВС объекта установки · сохраняет данные для последующего доступа по FTP – режим off-line · подключение до 9 присоединений к одному устройству с возможностью распределенной по объекту установки.

Позволяет существенно упростить процедуру проверки, настройки и демонстрации микропроцессорных блоков релейной защиты. Использование стенда позволяет существенно упростить процедуру демонстрации, проверки и настройки микропроцессорных блоков релейной защиты. Стенд позволяет проверить такие защиты, как МТЗ и ОЗЗ, в том числе направленные, ЗМН, ЗПН, ЗОФ. С помощью стенда можно легко проверить функции автоматики блоков РЗА, например, УРОВ, АПВ, АВР и т. п.

Назначение и функции: · Получение и передача точного времени одному или нескольким абонентам · Синхронизация работы оборудования по точному времени · Синхронизация абонентов по времени в пределах как одного, так и нескольких объектов, т.е. создание иерархии систем абонентов, привязанных к единому астрономическому времени на достаточно больших расстояниях · Ретрансляция сигналов точного времени в экранированные помещения объектов (подвалы, шахты и т.п.) Система ПАРМА РВ9.01 состоит из GPS-приемника и набора (от 1 до 4-х) повторителей.

Назначение и функции: · Передача сигналов точного времени по протоколу IRIG-B удаленным абонентам по оптическим каналам связи до 1 км · Ретрансляция сигналов на несколько каналов, тем самым обеспечение подключения от одного до восьми устройств к одному серверу времени

Характеристики температурной камеры ТК-1200 для дифракционных исследований: Материал корпуса - Нержавеющая сталь Материал рентгенпрозрачных окон - ПМА, графит Рентгенпрозрачность окон (Cu Kα) ~63,5% Материал кюветы - Оксид алюминия Глубина кюветы - 0.2, 0.5, 0.9 мм Вращение образца/Колебание - от 0° до 360° со скоростью от 0°/с до 180°/с Диапазон рабочих температур - от +25°С до + 1200°С Точность определения температуры ±2°С Точность поддержания температуры ±0,5°С Угол дифракции, 2θ - от -1° до 152° Возможность работы в вакууме, давление <10^(-6) бар (вакуумное оборудование поставляется отдельно). Конструкция ТК-1200 позволяет осуществлять контролируемое вращение образца вокруг собственной оси на 360° в плоскости образца, тем самым давая возможность изучить анизотропию внутренних напряжений. Вращение (колебание) самого образца внутри температурной камеры осуществляется за счет шагового двигателя. Опционально возможна установка как на θ-θ гониометр, так и на θ-2θ (горизонтально и вертикально). Для регистрации спектров возможно использование таких детекторов как сцинтиляционный, полупроводниковый, позиционно-чувствительный. Опционально возможно исполнение исполнение данного устройства для работы при различных температурах, механических и электрических воздействиях в разных средах. Возможно изготовление температурных камер в различных исполнениях: ТК-500 (температурный диапазон +25 – +500 °С), ТК-600 (температурный диапазон -160 – +600 °С), ТК-900 (температурный диапазон +25 – +900 °С) , ТК-1500 (температурный диапазон +25 – +1500 °С), а также с различными конструкциями держателя для Ваших образцов.

Предназначена для проведения процессов вакуумной термообработки: спекание, выращивание кристаллов из расплава, самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС) азотированных керамических и металлокерамических материалов, ферросплавов, интерметаллидов тугоплавких металлов, а также для вакуумной пайки инструментов из сплавов и сверхтвердых материалов, закалки, отжига, дегазации. Печь позволяет выполнять высококачественную бездефектную вакуумную пайку и пайку в специальной атмосфере (технологическом газе или вакууме), высокотемпературный отжиг выращенных плёнок силовых приборов и изделий микроэлектроники; Вакуумные печи широко используются в атомной, электронной, авиационной и других отраслях промышленности. Печь EPOS- VACFURN -2000 c вертикально расположенной вакуумной камерой колпакового типа, с опускающимся механизированным подом и вертикальной загрузкой материалов и полуфабрикатов, устанавливается на раму с декоративными, легкосъемными панелями. Источник питания и пульт управления расположены в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение глубокого вакуума (в холодном состоянии – не хуже 1·10-3 Па). Печь оснащена рубашкой охлаждения, системой жаростойких экранов и нагревателями на основе вольфрама и максимально проста в эксплуатации. Вакуум-герметичная конструкция и тщательный контроль газовых потоков позволяют проводить нагрев в атмосфере высокой чистоты в различных инертных, восстановительных газов и их смесей. Особенности • Полная автоматизация установки: управление вакуумными агрегатами, мощностью нагревателей, подачей газов, а также электромеханическими элементами. • Нагревательные элементы и зона нагрева выполнены из вольфрама, что позволяет нагревать изделия до 2000 °C.; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме; • Материалы, использованные для изготовления тепловых экранов - молибден, вольфрам и жаростойкая нержавеющая сталь; • Экраны крышек выполнены таким образом, что образуют тепловой замок; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию; • В установке реализована возможность работы в среде инертных газов, формир-газа и их смеси; • Типичная загрузка обрабатываемого материала до 5 кг; Преимущества Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 2000°C. При этом реализованы 2 варианта настройки программы работы печи: • по температуре нагревателя (OTC), температурный сенсор в области нагревателя; • по температуре загрузки (STC), температурный сенсор в зоне нагрева над загрузкой. Точность определения температуры печи и зоны нагрева определяется классом точности термопары (ТВР А1); Точность поддержания температуры в изотермическом режиме +/- 5С; Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора; При проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов;

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.