Поиск

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Измеряется величина тока на электрод, помещенный в плазму, в зависимости от величины приложенного пилообразного напряжения, то есть определяется зондовая вольтамперная характеристика (ВАХ). ВАХ позволяет определить локальные, в области нахождения электрода, параметры невозмущенной плазмы. При помощи встроенного математического аппарата вычисляется плотность плазмы и оценивается ее температура на основе измеренной ВАХ. Особенности Если в плазму вводятся два малых одинаковых электрода на близком расстоянии, и напряжение подается между ними, зонд Ленгмюра работает в режиме двойного зонда. Такой режим установлен по умолчанию, он позволяет диагностировать параметры высокочастотной или нестационарной плазмы, практически не возмущая её, т.к. электроды полностью гальванически изолированы от разрядной камеры. В режиме одиночного зонда пилообразное напряжение подается на электрод, который введен в плазму, относительно опорного электрода, которым может быть металлическая стенка разрядной камеры. Преимущество Манипулятор позволяет осуществлять аксиальное и радиальное позиционирование датчика в пространстве рабочей камеры и определять распределение концентрации плазмы или оценивать ее однородность. Надежность, техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы.

Кадмий-Теллур \ Кадмий-Цинк-Теллур – полупроводники напрямую преобразовывающие излучение в электрический сигнал. В сравнении с остальными имеют такие преимущества как: – высокая чувствительность и быстродействие —> снижение дозы облучения – высокое пространственное разрешение —> ясное и четкое изображение – работают при комнатной температуре —> приборы легкие и компактные

Диаметр: до 150 мм Длина слитка: до 150 мм. Ориентация: <100>, <111>, <100> +6° в направлении <111> Допуск на пластинах: ± 0,5° Значение EPD: от 500 до 5000/см2. Легирующая добавка: галлий p-типа (Ga), сурьма n-типа (Sb). Удельное сопротивление при 20°C: от 0,002 до 45 Втсм. Радиальный разброс удельного сопротивления: от 1 до 10 % Осевой разброс удельного сопротивления вдоль слитка: от 10 до 30 %.

Монокристаллы ZnTe могут применяться как для генерации, так и для регистрации ТераГерцового излучения (1012 – 1013 гц).

Газификатор представляет собой комплексный агрегат, состоящий из резервуара для хранения и выдачи жидкого азота, аргона или кислорода, атмосферного испарителя, предназначенного для газификации жидкого криопродукта, а также из арматуры и трубопроводов.

В емкости, где хранится криопродукт, создается необходимый уровень давления при помощи испарителя, за счет чего продукт вытесняется, поступает в атмосферный испаритель. После этого за счет влияния температуры внешней среды осуществляется газификация криогенной жидкости. Оборудование в автоматическом режиме поддерживает заданный уровень рабочего давления, поэтому не требует участия оператора. При этом предусмотрена надежная изоляция, что позволяет обеспечить продолжительное хранение продукта без потерь.

Моноблок MБ-6-40-150 представляет собой компактную установку, состоящую из шести новых баллонов по 40 литров, которые закреплены на едином каркасе и объединены одним коллектором. Моноблок позволит обеспечить стабильную подачу газа, увеличить его объемы хранения без необходимости постоянной погрузки-разгрузки и подключения каждого баллона.

Атмосферные испарители газифицируют жидкий углерод, кислород, азот, аргона без затрат электроэнергии. Применяются в составе криогенных газификационных установок. Производительность основной линейки испарителей – до 1200 м³/час, рабочее давление – от 20 до 40 МПа, выпускаются в горизонтальном и вертикальном исполнении.

Лабораторный возвратно-поступательный дозировочный насос непрерывного действия НМ-НД – предназначен для решения задач создания избыточного давления, перекачки жидкостей и точного дозирования реагентов в лабораторных условиях. Принцип действия насоса основан на движении поршня (плунжера). В результате возвратно-поступательного движения создается избыточное давление внутри рабочего цилиндра или, напротив, низкое давление. В первом случае происходит выталкивание жидкости, во втором – втягивание. Такая конструкция обеспечивает высокую точность и эффективность работы. Насос оснащен износостойкой манжетой, не требующей обслуживания, что значительно упрощает эксплуатацию и снижает затраты на обслуживание. Плунжер изготовлен из керамики с низким коэффициентом трения и высокой износостойкостью. Основные технические характеристики: Максимальное рабочее давление: до 100 МПа; Диапазон расхода: от 1 до 1000 мл/мин; Материал смачиваемых узлов: нержавеющая сталь для обеспечения долговечности и химической стойкости; Возможность перекачки сниженного CO₂; Компактные размеры; Питание: от сети 220 В; Межсервисный интервал: не менее 2500 часов. Особенности: Возможность работы в различных режимах: создание давления, поддержание постоянного расхода, перекачка заданного объема; Компенсация пульсаций давления с помощью подключенного пневмогидроаккумулятора. Программное управление для задания параметров работы и интеграции с персональным компьютером; Автоматизация процессов, мониторинг и запись данных о давлении, расходе и объеме жидкости. Области применения: Создание и контроль давления в лабораторных исследованиях; Точное дозирование реагентов в химических и физических экспериментах; Работа с жидкостями и газами, включая сниженный CO₂.

Регуляторы противодавления (BPR) серии НМ-РПД используются для поддержания давления при исследовании фильтрационно-емкостных свойств горных пород, анализе PVT, испытаниях флюидов при сверхкритических параметрах исследования, а также в реакторах с постоянной и периодической подачей потока. Все регуляторы серии НМ-РПД поддерживают стабильное давление в широком диапазоне расхода и могут работать с жидкостями, газами или многофазными жидкостями. Регуляторы противодавления работают за счёт системы сбалансированного давления. Газ при заданном давлении подаётся в камеру регулятора и тем самым изолирует жидкость или газ от технологического процесса. При достижении давления свыше рабочего, диафрагма деформируется и пропускает жидкость и газ, тем самым, поддерживая необходимое давление процесса. При применении игольчатого регулятора процесс заключается в выходе иглы из седла. Когда давление падает ниже давления в камере, регулятор перекрывает поток, тем самым поддерживая давление на заданном уровне. Большинство регуляторов противодавления серии НМ-РПД изготавливаются из нержавеющей стали, обеспечивающей превосходную коррозионную стойкость к большинству химических веществ. Так же мы предлагаем регуляторы таких марок сталей и сплавов как Хастеллой C276, Титан и др. В избежание засорения регулятора противодавления проходные каналы могут быть увеличены. Основные характеристики: Диапазоны давления: 0-410 bar, 0-670 bar, 10-1050 bar, 30-1400 bar; Диапазон температуры: -600C до 230 0C; Материал изготовления: Нержавеющая сталь, Hastelloy C 276, Титан; Материал рабочих элементов: Мембрана: PTFE, Графитонаполненный PTFE, Игла: Титан, Нержавеющая сталь, С276, Седло: Peek; Разъемы: 1/16″, 1/8″ и 1/4″.