Поиск

Предназначена для проведения процессов вакуумной термообработки: спекание, выращивание кристаллов из расплава, самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС) азотированных керамических и металлокерамических материалов, ферросплавов, интерметаллидов тугоплавких металлов, а также для вакуумной пайки инструментов из сплавов и сверхтвердых материалов, закалки, отжига, дегазации. Печь позволяет выполнять высококачественную бездефектную вакуумную пайку и пайку в специальной атмосфере (технологическом газе или вакууме), высокотемпературный отжиг выращенных плёнок силовых приборов и изделий микроэлектроники; Вакуумные печи широко используются в атомной, электронной, авиационной и других отраслях промышленности. Печь EPOS- VACFURN -2000 c вертикально расположенной вакуумной камерой колпакового типа, с опускающимся механизированным подом и вертикальной загрузкой материалов и полуфабрикатов, устанавливается на раму с декоративными, легкосъемными панелями. Источник питания и пульт управления расположены в непосредственной близости к рабочей камере. Данная конструкция обеспечивает достижение глубокого вакуума (в холодном состоянии – не хуже 1·10-3 Па). Печь оснащена рубашкой охлаждения, системой жаростойких экранов и нагревателями на основе вольфрама и максимально проста в эксплуатации. Вакуум-герметичная конструкция и тщательный контроль газовых потоков позволяют проводить нагрев в атмосфере высокой чистоты в различных инертных, восстановительных газов и их смесей. Особенности • Полная автоматизация установки: управление вакуумными агрегатами, мощностью нагревателей, подачей газов, а также электромеханическими элементами. • Нагревательные элементы и зона нагрева выполнены из вольфрама, что позволяет нагревать изделия до 2000 °C.; • Скорость нагрева задается в диапазоне от 0,25 до 10 °С/мин; • Управление скоростью нагрева и охлаждения может осуществляться как в автоматическом (заданная программа), так и в ручном режиме; • Материалы, использованные для изготовления тепловых экранов - молибден, вольфрам и жаростойкая нержавеющая сталь; • Экраны крышек выполнены таким образом, что образуют тепловой замок; • Элементы конструкции, расположенные в зонах вакуума и нагрева обеспечивают низкий уровень газоотделения, малую тепловую инерцию; • В установке реализована возможность работы в среде инертных газов, формир-газа и их смеси; • Типичная загрузка обрабатываемого материала до 5 кг; Преимущества Печь позволяет проводить нагрев и охлаждение материалов, при низких градиентах и высокой точности контроля и поддержания температуры рабочей зоны при температурах на изделии до 2000°C. При этом реализованы 2 варианта настройки программы работы печи: • по температуре нагревателя (OTC), температурный сенсор в области нагревателя; • по температуре загрузки (STC), температурный сенсор в зоне нагрева над загрузкой. Точность определения температуры печи и зоны нагрева определяется классом точности термопары (ТВР А1); Точность поддержания температуры в изотермическом режиме +/- 5С; Компактная, вакуум-плотная конструкция печи гарантирует чистый, безопасный, и эффективный процесс при соблюдении высоких требований эргономики на рабочем месте оператора; При проведении технологических операций с обрабатываемыми материалами конструкция печи гарантирует защиту от окисления поверхности и других нецелевых химических процессов;

Материал столешниц: • ЛДСП; • HPL; • HPL PLUS; • Нержавеющая сталь; • Керамогранит; • Ceramic granite PRO. Дополнительная комплектация: • Лабораторные тумбы; • Сервисные надстройки; • Стол угловой лабораторный 1200 × 500 мм (ЛДСП, HPL, HPL PLUS); • Нижняя полка ПО/2 глубиной 300/400 мм выдерживает нагрузку до 100 кг. Габаритные размеры ШхГ ММ.: СР-10-7 Классик LAB RAL 9010 - 1000 × 700; СР-12-7 Классик LAB RAL 9010 - 1200 × 700; СР-15-7 Классик LAB RAL 9010 - 1500 × 700. Сервисные надстройки для лабораторных столов Классик LAB поставляется в комплекте с одной или двумя полками глубиной 300 или 400 мм, выполненными из ЛДСП или пластика (HPL, HPL PLUS). Допустимая нагрузка на полки до 50 кг. Для удобства подбора интересующей вас комплектации воспользуйтесь нашим онлайн-конструктором на сайте https://clck.ru/34Zpby

Прецизионная, широкополосная измерительная рупорная антенна П6-127М, на базе H-образного волновода, предназначена для приема и передачи линейно поляризационного сигнала в диапазоне частот от 8 до 18 ГГц. Имеет высокую степень равномерности Ку и КСВН. Идеальна для измерения параметров антенных устройств и параметров ЭМС радиоэлектронных средств. Тип рупорная, двухгребневая. Поляризация линейная. Коэффициент усиления ≥ 18 дБ. Габаритные размеры 434 × 185 × 121 мм. Вес 1,5 кг.

Может использоваться для измерения напряженности электромагнитного поля и плотности потока энергии, определения направления на источник сигнала, излучения электромагнитного поля с подводимой мощностью до 500 Вт. Диапазон частот 0,2 — 1 ГГц. Коэффициент усиления (Ку) ≥ 3 дБ. Габариты 864 × 835 × 82 мм. Вес 2 кг.

Для измерения плотности потока энергии электромагнитного поля совместно с измерительными приемными устройствами, а с генераторами – для возбуждения электромагнитного поля с заданной плотностью потока энергии в диапазоне от 26,5 до 40,0 ГГц. Рекомендована для метрологических приложений и задач оценки ЭМС и ПЭМИН. Позволяет производить измерения поляризационных характеристик сигналов. Тип антенны рупорная. Поляризация круговая: правого и левого вращения. Габариты 250 × 90 × 88 мм (без учета узла крепления).

Антенны приёмо-передающие магнитного и электрического поля комбинированные П6-319 и П6-319М (далее – антенны) предназначены для излучения и приема магнитной и электрической составляющих электромагнитного поля. Номер в госреестре 86146-22. Принцип действия антенн основан на излучении (формировании) магнитной и электрической составляющей магнитного поля в диапазоне 0,009 – 30,000 МГц. Диапазон частот 9 кГц — 30 МГц. Коэффициент калибровки (Кк) от - 41 до 86 дБ (1/м). Поляризация линейная. Диаметр магнитной рамки 890 мм. Высота штыря 1000 мм. Габаритные размеры 1145 × 890 × 261 мм (без установленной пластины «противовеса») Вес 3,2 кг.

Изготовлены из металлического профиля, покрытого химически стойкой краской, оснащены колесными опорами, две из которых со стопорным механизмом. Материал столешниц можно подобрать исходя из поставленных задач. Полки у подкатных стоек могут регулироваться по высоте. Имеется возможность оснащения дополнительным блоком розеток для подключения оборудования. Материал столешниц - ЛДСП. Габаритные размеры ШхГхВ ММ.: • СТ-05 LAB RAL 9010 - 600×510×1640; • СТ-05 Комфорт LAB RAL 9010 - 700×470×1635; • СТ-06 LAB RAL 9010 - 600×500×1605.

МИК-ИС обеспечивает электропитание напряжением переменного тока 220 В, 50 Гц. Инверторная система питается от цепи постоянного напряжения телекоммуникационного оборудования 48 В. Оператор может дистанционно управлять параметрами МИК-ИС по LAN. Сделано в России при поддержке Минпромторга РФ. Оперативная служба поддержки. «Холодный старт» при температуре до −40 °С в режиме ограниченной функциональности. Унифицированное масштабирование выходной мощности переменного тока в инверторной системе кратно модулям высотой 1U: для систем до 3 кВт высота 1U, до 6 кВт — 2U и т.д.. Программа верхнего уровня для АРМ оператора для управления и мониторинга параметров инверторной системы.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Настольная установка магнетронного напыления с высокопроизводительной откачкой, двумя магнетронами диаметром 1, 2, 3” и одним ионным источником с анодным слоем. Применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 270мм. Современные специализированные источники питания повышенной мощности с быстрым дугогашением обеспечивают стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Регулировка расстояний между анодом и мишенью, а также между мишенью и образцами позволяет получать различную структуру покрытий. Может комплектоваться: ВЧ магнетроном, нагревателями до 450 или 800 ºС, датчиком толщины плёнки. Особенности • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Возможность водяного охлаждения камеры; • Может комплектоваться: нагревателем подложки до 450 или 800°С, ВЧ магнетроном, резистивным испарителем углерода, пневмоприводом заслонок магнетронов. • Возможность распылять мишени из магнитных материалов, стекол или керамики.