Поиск

Настольная установка магнетронного напыления с одним, двумя или тремя магнетронами применяется для напыления металлов, диэлектриков и полупроводников на подложки диаметром до 100 мм. Источник питания повышенной мощности обеспечивает стабильность системы, воспроизводимое и качественное покрытие. Технология косвенного контакта охлаждения с мишенью исключает риск попадания воды при смене мишени. Отсутствует уплотнение вода-вакуум. Особенности • Возможность нанесения Ag, Au и С для подготовки SEM образцов; • Полностью безмасляная откачка обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий; • Прозрачное окно на передней части камеры позволяет визуально контролировать процесс осаждения покрытий; • Диаметр нераспыляемой центральной части магнетрона минимизирован; • Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий; • Высокая повторяемость результатов позволяет получать серии образцов с заданными свойствами. Преимущество Вакуумная камера, выполненная из нержавеющей стали, оптимизированная для процесса напыления в малом объёме и обеспечивающая распыление сверху вниз. Широкий выбор магнетронов диаметром 1"(25,4 мм), 2"(50,8 мм) и 3" (76,2 мм) в DC и RF исполнении. Дополнительные опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд.

Система напыления углерода с форвакуумным насосом C156RE нашей разработки и производства - это настольный прибор, позволяющий наносить углерод на поверхность образца методом термического резистивного импульсного испарения с целью исследования образцов методом электронной микроскопии и получения изображения высокого качества. Финальным шагом в подготовке образцов для исследований методами электронной микроскопии является нанесение покрытия из проводящих материалов. Этот шаг необходим в первую очередь для того, чтобы избежать скопления заряда на образце в процессе исследования, который существенно снижает качество получаемого изображения. Напыляемыми материалами в числе прочих могут быть золото, платина, палладий, углерод и др. Основными задачами напыления являются: повышение качества получаемых снимком и защита хрупких образцов. Технические характеристики: ​Материалы напыления Углерод (Стержень, Шнур*) ​Тип испарителя ​ Резистивный, токовый, импульсный ​Максимальный ток Импульса испарителя — 90 А Вакуумная система Полностью автоматическая, форвакуумный / турбомолекулярный* насосы Производительность форвакуумного насоса 19,8 м3/ч Производительность турбомолекулярного насоса* 90 л/с Максимальная скорость вращения столика 20 оборотов в мин. ​Управление процессом напыления ​ Графический сенсорный экран 7” ​Измерение давления (встроенный датчик вакуума) Диапазон: 1000 мбар – 10-3 мбар (форв. насос) / 1000 мбар – 10-9 мбар (турбонасос) ​Измерение толщины покрытия* ​Кварцевые весы* ​Сохранение и загрузка пользов. рецептов >1000 шт ​Габариты и вес (без опций) 450х300х400 мм, 22 кг

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей - пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов. Система напыления металлов с турбомолекулярным насосом C156TS нашей разработки и производства - это настольный прибор, позволяющий наносить тонкие пленки металлов (Au, Ag, Pt, Cr и др.) на поверхность образца методом магнетронного распыления с целью исследования методом электронной микроскопии и получения изображений высокого качества. Финальным шагом в подготовке образцов для исследований методами электронной микроскопии является нанесение покрытия из проводящих материалов. Этот шаг необходим в первую очередь для того, чтобы избежать скопления заряда на образце в процессе исследования, который существенно снижает качество получаемого изображения. Напыляемыми материалами в числе прочих могут быть золото, платина, палладий, углерод и др. Золотое и платиновое напыления в большинстве случаев используются для исследований биологических образцов в высоком разрешении, в то время как углеродное покрытие более применимо для пробоподготовки твердых материалов, таких как металлы или минералы. Техники покрытия также могут быть различны: нанесение тонких пленок металлов на поверхность образца методом магнетронного распыления, а также углерод методом термического резистивного импульсного испарения. Что входит в систему: - базовый блок с управляющей электроникой; - магнетрон; - вакуумная система с форвакуумным насосом; - предметный столик Ø100 мм с вращением; - большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла; - сенсорный экран управления 7″; - программное обеспечение на русском языке; - книга «рецептов» напыления; - стартовый набор расходных материалов. Тех. характеристики: - Диаметр столика для образцов 100 мм - Тип испарителя - магнетрон постоянного тока - ​​Максимальный ток разряда — 100 мА ​ - Полностью автоматическая вакуумная система - Форвакуумный* / турбомолекулярный насосы - Производительность форвакуумного насоса 19,8 м3/ч - Производительность турбомолекулярного насоса 90 л/с - ​Сохранение и загрузка пользов. рецептов >1000 шт - ​Габариты и вес (без опций) 450х300х400 мм, 22 кг

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей - пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов. Система напыления металлов с форвакуумным насосом C156RS нашей разработки и производства - это настольный прибор, позволяющий наносить тонкие пленки металлов (Au, Ag, Pt, Cr и др.) на поверхность образца методом магнетронного распыления с целью исследования методом электронной микроскопии и получения изображений высокого качества. Пробоподготовка образцов к исследованиям методами ЭМ Финальным шагом в подготовке образцов для исследований методами электронной микроскопии является нанесение покрытия из проводящих материалов. Этот шаг необходим в первую очередь для того, чтобы избежать скопления заряда на образце в процессе исследования, который существенно снижает качество получаемого изображения. Напыляемыми материалами в числе прочих могут быть золото, платина, палладий, углерод и др. Золотое и платиновое напыления в большинстве случаев используются для исследований биологических образцов в высоком разрешении, в то время как углеродное покрытие более применимо для пробоподготовки твердых материалов, таких как металлы или минералы. Техники покрытия также могут быть различны: нанесение тонких пленок металлов на поверхность образца методом магнетронного распыления, а также углерод методом термического резистивного импульсного испарения. Что входит в систему: - базовый блок с управляющей электроникой; - магнетрон; - вакуумная система с форвакуумным насосом; - предметный столик Ø100 мм с вращением; - большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла; - сенсорный экран управления 7″; - программное обеспечение на русском языке; - книга «рецептов» напыления; - стартовый набор расходных материалов. Тех. характеристики: - ​Диапазон давления: 1000 мбар – 10-3 мбар (форв. насос) / 1000 мбар – 10-9 мбар (турбонасос) ​ - Измерение толщины покрытия с помощью кварцевых весов - ​Сохранение и загрузка пользов. рецептов >1000 шт - ​Габариты и вес (без опций) 450х300х400 мм, 22 кг

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей - пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов. Система напыления углерода с форвакуумным насосом C156RE нашей разработки и производства - это настольный прибор, позволяющий наносить углерод на поверхность образца методом термического резистивного импульсного испарения с целью исследования образцов методом электронной микроскопии и получения изображения высокого качества. Финальным шагом в подготовке образцов для исследований методами электронной микроскопии является нанесение покрытия из проводящих материалов. Этот шаг необходим в первую очередь для того, чтобы избежать скопления заряда на образце в процессе исследования, который существенно снижает качество получаемого изображения. Напыляемыми материалами в числе прочих могут быть золото, платина, палладий, углерод и др. Золотое и платиновое напыления в большинстве случаев используются для исследований биологических образцов в высоком разрешении, в то время как углеродное покрытие более применимо для пробоподготовки твердых материалов, таких как металлы или минералы. Техники покрытия также могут быть различны: нанесение тонких пленок металлов на поверхность образца методом магнетронного распыления, а также углерод методом термического резистивного импульсного испарения. Что входит в систему: - базовый блок с управляющей электроникой; - углеродный испаритель; - вакуумная система с турбомолекулярным насосом; - предметный столик Ø100 мм с вращением; - большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла; - сенсорный экран управления 7″; - программное обеспечение на русском языке; - книга «рецептов» напыления; - стартовый набор расходных материалов. Тех. характеристики: - ​Материалы напыления - Углерод (Стержень, Шнур*) - Резистивный, токовый, импульсный испаритель - ​Максимальный ток импульса испарителя — 90 А - Полностью автоматическая, вакуумная система - Форвакуумный* / турбомолекулярный насосы - Максимальная скорость вращения столика 20 оборотов в мин. - ​Графический сенсорный экран 7” - Габариты и вес (без опций) 450х300х400 мм, 22 кг

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей - пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов. Система плазменной активации поверхности GD156R нашей разработки и производства - это настольный прибор, позволяющий производить плазменную очистку и активацию поверхности с целью исследования образцов методом электронной микроскопии и получения изображения высокого качества. Пробоподготовка образцов к исследованиям методами ЭМ Система GD156R представляет собой универсальную установку плазменной обработки и активации поверхности и предназначена для подготовки образцов к исследованиям методами электронной микроскопии. Плазменная очистка — это предварительная обработка поверхности перед исследованиями поверхности образцов, анализом состава вещества, нанесением фоторезиста, вакуумным напылением слоев, пайкой или микросваркой. В процессе плазменной очистки поверхность материала подвергается химической реакции с ионизированными газами. Свободные радикалы газа взаимодействуют с загрязнением на поверхности, преобразуются в газовую фазу и далее удаляются. Такой способ позволяет достичь прецизионной очистки чувствительных поверхностей, что повышает ее адгезию. Другой задачей применения плазменной обработки является активация поверхности с помощью плазмы. Время обработки в большинстве случаев составляет несколько минут. Качество активации может проверяется тестовыми чернилами. Плазменная очистка металлов применяется для получения поверхности, не содержащей оксидов. Прибор предназначен для работы с широким спектром образцов, обеспечивает их простую загрузку и выгрузку. Система полностью автоматизирована, пользователь может задать алгоритм работы, включающий стадии откачки, дегазации, настроить рабочее давление, напряжение, ток, время обработки. Что входит в систему: - базовый блок с управляющей электроникой; - магнетрон; - вакуумная система с форвакуумным насосом; - предметный столик Ø100 мм с вращением; - большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла; - сенсорный экран управления 7″; - программное обеспечение API156 на русском языке; - книга «рецептов» по обработке. Тех. характеристики: - Характеристики вакуумной камеры: внутренний диаметр - 156 мм, высота - 100 мм, производительность насоса - 19,8 м3/ч - ​Диапазон давления: 1000 мбар – 10-3 мбар (форв. насос) / 1000 мбар – 10-9 мбар (турбонасос) ​ - Измерение толщины покрытия с помощью кварцевых весов - ​Сохранение и загрузка пользов. рецептов >1000 шт - ​Габариты и вес (без опций) 450х300х400 мм, 22 кг