Поиск

Рабочее состояние диффузионного насоса НД-800 зависит от температуры рабочей жидкости в кипятильнике насоса. При первоначальной заливке рекомендуется заливать максимальный объем рабочей жидкости. Рабочая жидкость - масло вакуумное «VACMA OIL 500» ТУ 19.20.29-061-00218526-2019. Oбщee количество рабочей жидкости в диффузионном насосе НД-800 максимум 15л, минимум 10л. Смотровое окно для визуального контроля рабочей жидкости имеет метки максимального и минимального его количества. При нормальном режиме эксплуатации насоса уровень рабочей жидкости практически не меняется. Температура рабочей жидкости при работе насоса на предельном остаточном давлении составляет около (240...255) 0С. Работу нагревателей в диффузионном насосе НД-800 рекомендуется контролировать с помощью двух датчиков температуры. Датчик температуры необходимо устанавливать в специальное гнездо радиатора над нагревателем. В том случае, когда происходит потеря рабочей жидкости и увеличение температуры радиаторов до 360 0С для диффузионного насоса НД-800, датчик температуры должен дать команду на автоматическое отключение нагревателей. Последующее включение нагревателей насоса не должно быть автоматическим и должно производиться только после охлаждения системы. Вода на входе в системы охлаждения корпуса и маслоотражателя должна подаваться давлением от 0,3 MПa (3 кгс/см2) до 0,5 MПa (5 кгс/см2) и температурой от плюс 4 °С до плюс 25 °С. Рекомендуемый расход охлаждающей воды на корпус 900 л/ч, на маслоотражатель 120 л/ч и регулируется по температуре воды на выходе, которая не должна превышать плюс 40 °С. Слив воды должен быть свободным (с разрывом струи).

Бустерный насос 2НВБМ-400(Р)/6000 представляет собой конструкцию, состоящую из корпусов, паропровода, ловушки и нагревателя. Требуемая эффективная быстрота действия форвакуумного насоса (насосов) при давлении 200 Па (1,5 мм рт.ст.) на выходе из бустерного насоса 2НВБМ-400(Р)/6000 не менее 45 л/с. Предельное остаточное давление насоса 2НВБМ-400(Р)/6000, замеряемое преобразователем манометрическим ионизационным ПМИ-2 с залитым в его ловушку азотом, не более 6,6∙10-4 Па (5∙10-6 мм рт.ст.). Давление охлаждающей воды на входе в насос 2НВБМ-400(Р)/6000 должно быть от 0,2 до 0,5 МПа (от 2 до 5 кгс/см2). Слив из насоса должен быть свободным с разрывом струи. Расход охлаждающей воды 600 л/ч. Общее количество рабочей жидкости для насоса 2НВБМ-400(Р)/6000 составляет 47л., уровень рабочей жидкости должен находиться между верхней и нижней рисками уровнемера. Замена или доливка рабочей жидкости зависит от режима работы насоса (входного давления, продолжительности откачки и т.п.) и состава откачиваемой среды, поэтому время через которое заменяется или доливается рабочая жидкость может быть 100 часов и более. Большой расход рабочей жидкости наблюдается при работе насоса в диапазоне входных давлений от 1,33 до 13,3 Па (от 1·10-2до 1·10-1мм рт.ст.). Режим работы насоса в диапазоне от 13,3 Па (0,1 мм рт.ст.) до предельного остаточного давления – циклически нерегулярный.

Предлагаем Вам услуги по проектированию и создание вакуумных камер любой сложности (комплексное решение контроля герметичности): объем камеры от 1 до 100литров; многозонные малоразмерные специализированные вакуумные камеры (кассетного типа); карусели; возможность комплектации запорной арматурой(клапана); применение различных фланцевых разъемов (по согласованию); возможность автоматизации тех.процесса; возможность подключения не стандартного дополнительного оборудования.

Установка разработана специально для отработки технологий нанесения покрытий, проведения научных исследований и небольшого производства. Простота использования сочетается с высоким качеством получаемых покрытий за счёт автоматизации управления вакуумной системой и широким диапазоном регулировок процесса напыления. Установка предусматривает возможность нанесения различных типов металлов (Au, Ti, Mo, Cr, Ni, Al, Cu и т.д.) и диэлектриков на твёрдые образцы (кремний, керамика, стекло, металлы). Многофункциональная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag имеет вакуумную камеру, оснащенную шестью фланцами ISO100 для установки различных технологических источников напыления и других типов (CF100, KF40, 25, 16, «bolt») для вспомогательного оборудования. Возможна установка термического испарителя-лодочки, низкотемпературного испарителя (LTE), DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем на несколько образцов диаметром до 150 мм с системой нагрева и заслонкой. Особенности и опциональные возможности • Вращаемый карусельный подложкодержатель (двойное вращение) с позиционированием по оптическому датчику положения. • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Возможность полной автоматизации: контроль вакуума, подачи газов, температуры подложки, предварительной очистки поверхности и ассистирования в процессе нанесения покрытия. Контроль толщины наносимого покрытия с помощью автотоматизированных заслонок у всех источников (до 5 штук) с закрытием по таймеру экспозиции или датчику толщины. Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Лабораторная PVD установка EPOS‐PVD‐E-Mag-400 имеет вакуумную камеру, оснащенную четырьмя фланцами для установки технологических источников напыления. Возможна установка термического испарителя-лодочки, DC и RF магнетронов, ионного источника очистки и ассистирования, электронно-лучевого испарителя. Установка оснащена вращающимся подложкодержателем с системой нагрева подложек и заслонкой. Особенности • Возможность изменения расстояния между подложкодержателем и источниками позволяет достигать требуемой равномерности напыления и состава пленок при заданных толщинах; • Обеспечение позиционирования подложек напротив источника с помощью шагового двигателя; • Индивидуальный нагрев подложек автоматически стабилизируется и рост температуры может быть запрограммирован до 650°С; • Возможность оснащения кварцевым датчиком измерения толщины пленок и термопарой с точностью до 1°С. • Прецизионная система газоподачи через кольцо в область напыления позволяет получать пленки высокой чистоты из оксидов металлов. Преимущество Широкий выбор технологических устройств и опции позволяют сконфигурировать систему непосредственно для Ваших нужд, а также возможность модернизации для дополнения и расширения производственных возможностей в будущем.

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей - пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов. Система напыления углерода с форвакуумным насосом C156RE нашей разработки и производства - это настольный прибор, позволяющий наносить углерод на поверхность образца методом термического резистивного импульсного испарения с целью исследования образцов методом электронной микроскопии и получения изображения высокого качества. Что входит в систему: ⬢ базовый блок с управляющей электроникой; ⬢ углеродный испаритель; ⬢ вакуумная система с форвакуумным насосом; ⬢ предметный столик Ø100 мм с вращением; ⬢ большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла; ⬢ сенсорный экран управления 7″; ⬢ программное обеспечение на русском языке; ⬢ книга «рецептов» напыления; ⬢ стартовый набор расходных материалов. В зависимости от предполагаемой области применения, система напыления может быть дополнительно оснащена: ⬢ измерителем толщины покрытия на основе кварцевых весов; ⬢ держателем образцов под задачи; ⬢ вакуумной системой на базе турбомолекулярного насоса; ⬢ различной комплектацией расходных материалов (углеродные шнуры/стержни, кварцевые кристаллы, дополнительный набор уплотнителей, набор для чистки камеры); ⬢ предметным столиком с нагревом для увеличения адгезии покрытия; ⬢ сменной камерой Ø156х150 мм из боросиликатного стекла. Другие модели серии 156: Система напыления углерода с турбомолекулярным насосом C156TE; Система напыления металлов с форвакуумным насосом C156RS; Система напыления металлов с турбомолекулярным насосом C156TS; Установка плазменной активации поверхности GD156R.

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей - пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов. Система напыления углерода с турбомолекулярным насосом C156TE нашей разработки и производства - это настольный прибор, позволяющий наносить углерод на поверхность образца методом термического резистивного импульсного испарения с целью исследования образцов методом электронной микроскопии и получения изображения высокого качества. Что входит в систему: ⬢ базовый блок с управляющей электроникой; ⬢ углеродный испаритель; ⬢ вакуумная система с турбомолекулярным насосом; ⬢ предметный столик Ø100 мм с вращением; ⬢ большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла; ⬢ сенсорный экран управления 7″; ⬢ программное обеспечение на русском языке; ⬢ книга «рецептов» напыления; ⬢ стартовый набор расходных материалов. В зависимости от предполагаемой области применения, система напыления может быть дополнительно оснащена: ⬢ измерителем толщины покрытия на основе кварцевых весов; ⬢ держателем образцов под задачи; ⬢ вакуумной системой на базе форвакуумного насоса; ⬢ различной комплектацией расходных материалов (углеродные шнуры/стержни, кварцевые кристаллы, дополнительный набор уплотнителей, набор для чистки камеры); ⬢ предметным столиком с нагревом для увеличения адгезии покрытия; ⬢ сменной камерой Ø156х150 мм из боросиликатного стекла. Другие модели серии 156: Система напыления углерода с форвакуумным насосом C156RE; Система напыления металлов с форвакуумным насосом C156RS; Система напыления металлов с турбомолекулярным насосом C156TS; Установка плазменной активации поверхности GD156R.

Измеряется величина тока на электрод, помещенный в плазму, в зависимости от величины приложенного пилообразного напряжения, то есть определяется зондовая вольтамперная характеристика (ВАХ). ВАХ позволяет определить локальные, в области нахождения электрода, параметры невозмущенной плазмы. При помощи встроенного математического аппарата вычисляется плотность плазмы и оценивается ее температура на основе измеренной ВАХ. Особенности Если в плазму вводятся два малых одинаковых электрода на близком расстоянии, и напряжение подается между ними, зонд Ленгмюра работает в режиме двойного зонда. Такой режим установлен по умолчанию, он позволяет диагностировать параметры высокочастотной или нестационарной плазмы, практически не возмущая её, т.к. электроды полностью гальванически изолированы от разрядной камеры. В режиме одиночного зонда пилообразное напряжение подается на электрод, который введен в плазму, относительно опорного электрода, которым может быть металлическая стенка разрядной камеры. Преимущество Манипулятор позволяет осуществлять аксиальное и радиальное позиционирование датчика в пространстве рабочей камеры и определять распределение концентрации плазмы или оценивать ее однородность. Надежность, техническая простота, удобство контроля и регулирования режимов работы.

Автоклав (реактор) высокого давления и температуры SET-20LE Series предназначен для создания внутри сосуда высоких значений температуры и давления. Позволяет в реальном времени контролировать показатели температуры и давления, необходимые для прогнозируемого поведения эксперимента. Автоклав предназначен для проведения исследований при давлении до 3 МПа и температуре до 350°С с возможностью перемешивания среды. Перемешивание среды реализовано посредством магнитной муфты с водяным охлаждением. Автоклав оборудован сапфировым смотровым окном, пневматическим подъемным механизмом и портом для подключения газбустера для регулировки давления. Основные характеристики: Внутренний объем, мл — 20000 Рабочее давление, МПа — 3 Рабочая температура, °C — 350 Материал частей контактирующих со средой — Коррозионностойкая сталь 12Х18Н10Т, PTFE, PEEK, FKM, Сапфир Уплотнения автоклава — PTFE, Графит, FKM Диапазон оборотов перемешивающего устройства, мин-1 — 50-500 Потребляемая мощность не более, кВт — 4,5 Момент магнитной муфты, H*м — 2,3 Общая масса не более, кг — 350 Габаритные размеры, ШхВхГ, мм — 1110х1900х650

Высокотемпературный химический реактор позволяет проводить химические реакции при экстремально высоких температурах, что существенно расширяет возможности синтеза новых материалов и ускоряет протекание многих процессов. Рабочая температура реактора до 900 °C позволяет проводить реакции, которые невозможны при низких температурах. Это открывает новые горизонты для синтеза уникальных материалов и ускоряет протекание сложных процессов. Корпус и крышка из Inconel 718, а также внутренняя чаша из 12Х18Н10Т обеспечивают долгий срок службы и устойчивость к экстремальным условиям. Благодаря этому, реактор гарантирует стабильную работу даже при высоких нагрузках. Блок управления позволяет легко устанавливать и регулировать температуру и давление, обеспечивая полный контроль над процессом. Удобное расположение кнопок и регуляторов делает работу с реактором интуитивно понятной. Сигнальная аварийная лампа, предохранительный клапан и система защиты от перегрева и превышения давления обеспечивают высокую степень безопасности. Вы можете быть уверены, что ваше оборудование и персонал защищены. Разъемы на задней панели блока управления включают подключения для питания, нагревателя, термопар и датчика давления. Порт USB позволяет подключить реактор к ПК для мониторинга и анализа данных, что делает процесс еще более удобным и эффективным. Технические характеристики: Внутренний объем: 500 мл Температура: 900 °C Рабочее давление: до 1 МПа Потребляемая мощность: не более 2,0 кВт Габариты: 430х710х520 мм Масса: 45 кг

Технические характеристики: Внутренний объем реактора, мл: 2000/5000 Рабочее давление, МПа: 6 Расчетное давление, МПа: 10 Рабочая температура, ℃: -20…250 Материал реакционной емкости: AISI 316 Тип нагрева: Криотермостат ZTM-20-250-30 Тип герметизации: Плоская тефлоновая прокладка Система перемешивания: Магнитная муфта с охлаждением Крутящий момент магнитной муфты, Н*м: 2 Скорость вращения мешалки, об/мин: 100-2000 Тип перемешивающих устройств: Лопастная двухуровневая/ рамная Измерение давления: Датчик давления, манометр Система измерения температуры: Датчик температуры на глубине 80% Тип запирания реактора: Фланцевый Система безопасности: Цифровой контроль параметров, предохранительный клапан (6 МПа) Донный слив: Вентиль нулевого объема OD 1/4″ Мобильность: Оснащён специальной тележкой для смены чаш Подключение к ПК: Возможность контроля параметров в реальном времени с визуализацией в виде графиков Преимущества реактора НМ-РК 2-60/250: Высокая точность контроля температуры и давления Устойчивость к агрессивным средам благодаря использованию AISI 316 Надежная система перемешивания с регулируемой скоростью Эргономичность и удобство эксплуатации благодаря мобильной тележке Интеграция с ПК для автоматического мониторинга параметров