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激光火花发射光谱仪
激光火花发射光谱仪
1 个卖家有售
一种独特的台式光发射光谱仪,具有结合激光火花和空气中电火花放电的组合光谱激发源,用于对电流传导样品进行快速光谱分析,分析固体整体(玻璃、陶瓷、塑料、金属、合金、花岗岩等)的元素组成。),各种压制粉末(包括土壤,岩石,地质样品等。). 该光谱仪可用于异质样品(表面和深度)的微量分析,用于分析微样品,复杂形状的样品。 LIES可用于黑色金属,有色金属,粉末冶金;金属科学;采矿,采矿和加工业;地质和地质勘探;生产建筑材料;生产高纯度材料;在生态和环境保护;在农业和食品工业; Lies-台式组合激光-火花发射光谱仪,用于固体巨石的光谱分析 组合激光-火花发射光谱仪的独特之处在于,与传统激光光谱仪不同,激光火花同时执行两项功能:烧蚀(从样品中提取被分析物质)和激发提取的原子和离子的光谱,LIES光谱仪使用的不是一次放电,而是两个–激光火花和电火花,它们共享上述功能:激光火花执行烧蚀,电火花作为被分析物质原子和离子光谱的激发源。 这种方法显着(由3-10倍!)提高了光谱仪的计量特性(灵敏度和再现性)。
Iskrolajn
Saint Petersburg
生产于: 圣彼得堡
光谱仪MKS-AT6104DM,MKS-AT6104DM1
光谱仪MKS-AT6104DM,MKS-AT6104DM1
测量期间检测装置在空间中的位置的确定 带电流传输的电缆线圈 以受控放射性核素含量分布图或伽马射线剂量率的形式显示测量结果 仪器光谱分析专家模式,自动识别样品的放射性核素成分 GARM expert软件用于后续数据处理和分析,以及辐射测绘
生产于: 白俄罗斯, 明斯克
辐射计RKS-AT1329
辐射计RKS-AT1329
辐射计: -根据AFA类型的气溶胶分析过滤器测量计数样品的总α和总β活性; -测量由样品物质制备的"厚层"计数样品的总α和总β活性(例如,通过蒸发或通过提供"厚"样品的任何其他方法); -测量由样品物质制备的"薄层"计数样品的总α和总β活性(例如,通过电解沉积); -测量1p9,2p9,3p9,1c0,2C0,3c0源的活动,通量密度,外部α和β辐射; -通过涂片控制表面的辐射污染。 设备控制,测量信息处理由外部电脑进行处理 使用自定义校准的能力 选择测量单位的能力 测量路径的LED稳定 无源铅保护免受背景辐射 维护测量数据库的能力 测量的方法论支持
生产于: 白俄罗斯, 明斯克
“АЛМАСС Био 200”质谱分析系统
“АЛМАСС Био 200”质谱分析系统
“АЛМАСС Био 200”质谱分析系统用于微生物的快速鉴定。通过分子“指纹”鉴定微生物。该系统结合了MALDI质谱微生物鉴定领域的最佳发展。生物信息软件算法通过将获得的质谱图与广泛的数据库进行比较,确保可靠和准确的物种鉴定。鉴定是基于每种培养物特有的蛋白质谱进行的:核糖体蛋白对微生物具有特异性。特点:https://algimed-techno.com/catalog/almass/almass-bio-200/
生产于: 莫斯科
FT-801红外傅里叶光谱仪
FT-801红外傅里叶光谱仪
它的目的是记录近红外区和中红外区固体、液体和气体物质(包括药物、油漆和油漆、石油产品、炸药、药理制剂、聚合物薄膜和纤维)的吸收光谱,并对含有几种成分的混合物进行定性和定量分析。
SIMEKS
Novosibirsk
生产于: 新西伯利亚
FT-805红外傅里叶光谱仪
FT-805红外傅里叶光谱仪
小型红外傅里叶光谱仪,具有集成机顶盒和两个探测器,包括高度敏感的冷却MST。 工作模式:传输和反射,NIP,测量使用光纤探针(可能的版本与一个或两对内置连接器)。 可以连接红外显微镜,望远镜来记录外部辐射的光谱。 该光谱仪可用作便携式光谱仪,除其他外,还可用于技术过程的快速监测、储罐和管道中液体的质量控制、生物对象在线分析、远程气体分析等。 该装置旨在在各种材料上创建高质量图像,并提供橡胶陈词滥调密封件和邮票的生产,分辨率至少为1800dpi。

资料描述

它是在创新的Shtrik平台的基础上创建的,该平台基于独特的控制系统,其硬件和软件完全由我们公司的专家开发。
该装置旨在在橡胶,金属,塑料等材料上创建高质量图像,并提供至少1800dpi分辨率的陈词滥调印章和邮票的制作。
在安装中使用的光纤激光器与镀锌扫描仪系统相结合,可确保在静态模式下进行高质量的雕刻,不需要水冷却和特殊维护。
在组装系统时,只使用经过测试和认证的部件,这保证了特别长的使用寿命,而无需额外的投资。

特征:

一种用于样品的双坐标高精度定位系统,借助该系统可沿X、Y轴移动物体工作台。 由于定位系统和图像片段的顺序雕刻,可以根据操作员设定的加工程序在自动模式下以高精度加工尺寸高达200×300mm的工件;
使用用于沿Z坐标移动扫描头的高精度机构的自动逐层雕刻的算法允许您在金属工件(钢,黄铜,铝,钛等)中形成深达5mm的高度详细的3D图像。);
由于采用了自动算法,无需操作员参与,即可对深度3d图像进行长时间的逐层雕刻(可能需要数十小时);
该装置配备了一个内置系统,用于从激光辐射暴露区去除gorenje产品,因此确保了扫描镜头不受生产产品的气味和保护,这在雕刻橡胶和塑料时尤为重要;
安装体完全复盖激光辐射的加工和传播区域,在安装外壳关闭的情况下,根据操作员设定的程序进行雕刻。 这种安装设计允许它归因于危险等级1的激光设备。
SIMEKS
Novosibirsk
生产于: 新西伯利亚
分光光度计 SF-102
分光光度计 SF-102
技术特点 测量光谱范围,nm 200-1100 零信号漂移,不超过,B/h 0.001 190 至 1100 nm 范围内基线与 0 的最大偏差,B ±0.002 预热时间(打开氘灯时),分钟 20 波长设置的重复性,不大于,nm 0.2 功率消耗,瓦 200 外形尺寸,毫米 225x476x362 重量,千克 11
Akvilon
Podolsk
生产于: 莫斯科地区, 波多利斯克
光电分光光度计KFK-3-01
光电分光光度计KFK-3-01
154 613 ₽
KFK-3-01的特点 分配的光谱范围为5-7nm SCNP测量范围1-99 % 光密度测量范围0.004-2b SCNP读数范围为0.1-120 % 光密度读数范围为0-3b 浓度读数范围为0.001-9999单位。 conc
ZOMZ
Sergiev Posad
生产于: 莫斯科地区, 谢尔盖耶夫镇
CFK分光光度计
CFK分光光度计
主要技术特点 波长范围,400-940 nm 范围由具有以下辐射波长的一组离散Led提供,400nm, 440, 470, 525, 590, 670, 770, 880, 940 测量范围: -SKNP, %; -光密度,B 控制范围: -光密度,B -浓度,单位conc。 1-100 0,03 -2 2 - 3 0,001-9999 SCNP测量中允许绝对误差的极限,±1% 测量光密度时允许绝对误差的限制: -在0.03至0.5b的范围内,B -在从0.51到1.09b,B的范围内 -在范围从1.1到2.0b,B ± 0,015 ± 0,045 ± 0,45 光度计由: -通过网络适配器从AC网络 -来自自主电源 电压220±22V 频率50.0±0.5Hz 四节AA电池,每节1.5v; 四节AA电池,每节1.2v 光度计消耗的功率,不超过7V*A 外形尺寸,不超过240x200x100mm 重量,不超过1.6公斤
ZOMZ
Sergiev Posad
生产于: 莫斯科地区, 谢尔盖耶夫镇
UVI-分光光度计SF-2000
UVI-分光光度计SF-2000
技术规格: 读数的光谱范围,190-1100nm 定向传输系数测量的光谱范围,190-1000nm 定向传输频谱系数测量允许绝对误差限值,±1.0% 波长设置允许绝对误差的极限,nm: -光谱范围为190.0至390.0 ±0.4nm -光谱范围超过390.0至1000.0 ±0.8nm 测量定向传输的频谱系数时误差的随机分量的均方偏差允许值的极限,0.2% 最小分配的光谱间隔,1.0nm 330和450nm波长的干扰辐射水平,不超过1.0%, 外形尺寸,不超过460x380x180 mm, 重量,不超过13公斤,
OKB Spektr
Saint Petersburg
生产于: 圣彼得堡