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火焰光谱仪设计用于快速测定技术解决方案中钠，锂，钾，钙，钡，铯，铷的广泛浓度（高达8个数量级）。 原子的激发发生在空气-乙炔火焰中。 该装置由带火焰控制的三狭缝燃烧器，气动喷雾器，喷雾室，进入Kolibri-2光谱仪的光辐射输入系统和自动空气和乙炔供应系统组成，具有控制和调节气体流 由于外部火焰层，使用三狭缝燃烧器可以提高燃烧器中央狭缝的火焰温度。 这使得可以测定低浓度的钙和钡。 与此同时，仍然可以在不堵塞燃烧器槽的情况下确定高浓度溶液中的杂质。 光谱仪的照明系统是镜面透镜，能够从火焰两侧收集光辐射，并将其引入多色器。

根据客户要求组合检测单元的组成 复合体在大范围内对伽马和中子辐射敏感度方面的可扩展性 自动同时伽马-中子辐射扫描 实时显示参考地形（GPS）的测量结果 放射性辐射源的搜索和检测以及同位素组成的鉴定 在抗冲击情况下的放置和使用 评估137cs放射性核素污染的表面密度(kBq/m2,Ci/km2)

-测量土壤和土壤中放射性核素134cs和137cs的污染密度和比活性; -测量水、食品、林业产品、农工综合体和液体放射性废物中放射性核素137cs、134cs、131i的比活度; -测定天然放射性核素40k、226RA、232Th的含量; -放射性核素的鉴定：134cs，137cs，131I，40K，226Ra，232Th; -测量伽马辐射的环境剂量当量 GPS绑定的无采样的测量 气密容器中的智能检测单元 自动确定137Cs和134Cs污染层的厚度

实验室红外傅里叶光谱仪FSM2203设计用于进行需要提高光谱分辨率的研究，包括气体的定性和定量分析。 该设备在光谱的中红外区域工作，具有用于输入来自外部源的辐射的光学端口，并且配备了惰性气体吹扫系统。

它具有空气中电弧放电光谱的激发源、碳电极、200-930nm范围的双空气光谱仪和在线性CCD探测器上的配准。 粉末材料和导流样品的光谱快速分析.

独联体的交付由LLC NPP RADIKO进行 249035,卡卢加地区,奥布宁斯克,马克思大道14号,14 电话:8(48439)4-97-16,4-97-18/传真:8(48439)4-97-68 电子邮件：main@radico.ru /网站：http://www.radico.ru 肺中放射性核素51cr、54mn、58Co、59Fe、65zn、95Nb、100mag、103ru、124sb、141ce、144ce的总活性超过阈值的监控; 灵活的软件控制光谱仪的功能，建立基于检查结果的数据库和报告 快速检验能力-每小时15人 共享AT1316（AT1316A）和AT1322（AT1322/1）的可能性 可在移动辐射控制实验室的微型巴士中部署的可能性

该装置旨在通过撒粉-吹气法法激发电弧中粉末样品的原子发射光谱。 它提供了高性能的常规分析，具有低消耗的石墨电极，并与任何光谱设备一起使用–"Grand"，STE-1，DFS-458，MFS-8，PGS-2等。

等离子体双视光谱仪允许同时记录任何谱线，分辨率高，浓度范围从ppb的分数到几十个百分点，并为解决任何研究任务提供了广泛的选择。 该设备旨在分析几乎所有类型的环境样品，包括水、土壤和沉积物。 快速启动，并无需长时间加热。 低氩气消耗。 易于使用。

对于需要快速分析、高技术含量、高可靠性和高精确度来确定金属产品全元素组成的客户来说，SPAS-05 是以最低成本购买、实施和运行设备的最佳解决方案。

技术规格: Rowland circle500mm的光学系统和焦距Paschen-Runge光学方案 氩气吹扫聚铬器(氩气消耗约0.05l/min) 175-425nm，可安装额外通道 光谱范围：钠589nm（按特殊顺序，可以在175-850nm范围内扩展） 氩气吹的地段。 开放的非字符串，有特殊的适配器用于分析杆和电线 Odatchik（远程三脚架）通过特殊订单，远程传感器的重量为1.2ng，电缆长度为2.5m 特别订购的额外空气三脚架 励磁源SPARK-500发电机 操作条件温度15...30°C，相对湿度<80% 电源要求功率1NVA，电压220-22V50HZ，单相带接地 氩气纯度99.998%的要求。 光谱仪有一个额外的 氩气净化过滤器。 如有需要 ，氩气净化支架SOAR-1可以包含在交付包装中 尺寸，mm（长，宽，高）810x525x975-地面版，810x525x430-桌面版 重量：地面版 80公斤 ，桌面版 50公斤 。 测得的浓度范围为0.0001%...10 % 相对误差（取决于浓度）为0.5％...5% 分析时间10...40秒。

用于监测半导体晶片参数的测试仪FSM1201P允许按照操作者设定的程序，自动测量放置在测量台上的直径为76、100、125、150和200毫米的平面平行抛光硅晶片。 一点的标准测量时间不超过20秒。 主要受控参数: 间质氧的浓度(板厚0.4-2.0mm)内(5×1015-2×1018)±5×1015 sm-3(半MF1188); 取代碳浓度(板厚0.4-2.0mm)范围:(1016-5×1017)±1016cm-3(半MF1391); 硅片中氧分布的径向不均匀性(半MF951); n-n+和p-p+类型的硅结构的外延层的厚度在(0.5–10.0)±0.1微米、(10-200)±1%微米(SEMI MF95)的范围内; CNS结构中外延硅层的厚度在(0.1-10.0)±1%微米范围内; FSS层中的磷和bfss层中的硼/磷的浓度在(1-10)±0.2重量％以内。