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台式火花光谱仪Iskroline100是金属和合金成分的现代快速分析仪。 该仪器基于发射光谱分析的方法，该方法利用谱线强度对样品中元素含量的依赖性。 该设备的主要目的是对各种碱（Fe，Al，Cu，Zn，Pb，Sn，Ni，Ti，Co，Mg等）的导电样品进行准确快速的分析。). 该光谱分析仪用于对有色金属和黑色金属（铸铁、低合金、中合金、许多高合金钢等）的成分进行定量分析。)对于大多数已知的合金元素和杂质，包括硫、磷和碳。 Iskroline100是一款现代户外发射光谱仪，用于金属和合金的光谱分析 该设备能够解决重工业的大多数分析任务。 对此，火花线100的适用范围非常广: 在黑色金属和有色金属冶金.快速分析合金的化学成分，用于熔化控制和成品认证控制。 在二次冶金中，它是相同的，以及分类和拆解黑色金属和有色金属废料。 在铸造生产-输入控制（合金等级的确定和确认），熔化控制和成品的输出控制，认证控制。 在金属加工、机械工程等方面. -生产中金属的输入控制，确定和确认购买材料的品牌。 注意铸铁光谱分析的特点 这种火花光谱仪既可以无损控制中小企业金属和合金成分的唯一手段，也可以作为有色金属和有色金属冶金大型企业实验室和车间复杂生产和分析综合体的一部分。 可提供分辨率为0.02-0.03nm的167–460nm范围内的任何谱线（包括磷，硫和碳线）。 Iskroline100是台式发射光谱仪的经济型号，具有一流的价格/分析能力比，具有高制造质量和可靠性。 如果您需要移动版光谱仪在装料场或车间/仓库中工作以进行分析，包括大型零件，我们建议您考虑配备远程探头的Iskroline500移动光谱仪的型号。 您可以在您感兴趣的配置中与我们的专家一起检查这些光谱仪的价格和功能。 发射光谱仪Iskroline100被列入俄罗斯，白俄罗斯，哈萨克斯坦等国家测量仪器登记册。 该设备符合电气设备和电磁兼容性的安全要求（GOST R52319-2005，GOST R51522.1-2011）。 Iskroline100由基于LCR-放电发生器火花的光谱激励系统、真空光谱仪1S2133、9个线阵CCD探测器上的配准系统、系统：控制、气体供应、抽真空以及外壳组成。

一种独特的台式光发射光谱仪，具有结合激光火花和空气中电火花放电的组合光谱激发源，用于对电流传导样品进行快速光谱分析，分析固体整体（玻璃、陶瓷、塑料、金属、合金、花岗岩等）的元素组成。），各种压制粉末（包括土壤，岩石，地质样品等。). 该光谱仪可用于异质样品（表面和深度）的微量分析，用于分析微样品，复杂形状的样品。 LIES可用于黑色金属，有色金属，粉末冶金;金属科学;采矿，采矿和加工业;地质和地质勘探;生产建筑材料;生产高纯度材料;在生态和环境保护;在农业和食品工业; Lies-台式组合激光-火花发射光谱仪，用于固体巨石的光谱分析 组合激光-火花发射光谱仪的独特之处在于，与传统激光光谱仪不同，激光火花同时执行两项功能：烧蚀（从样品中提取被分析物质）和激发提取的原子和离子的光谱，LIES光谱仪使用的不是一次放电，而是两个–激光火花和电火花，它们共享上述功能：激光火花执行烧蚀，电火花作为被分析物质原子和离子光谱的激发源。 这种方法显着（由3-10倍！）提高了光谱仪的计量特性（灵敏度和再现性）。

AR-35分析仪是一种全自动分析复合体，专为连续X射线荧光分析浆液和溶液的化学成分而设计。 该设备有一个移动软件控制的测量头，带有一个X射线管和固定的光谱通道（最多8个），每个通道都可以调整到任何化学元素（从Ca到U）。 在操作过程中，头根据给定的程序绕过多达15个流量比色皿，执行测量。 多通道（最多15个分析产品）。 与自动化系统兼容，用于采样，样品交付，处理和显示分析结果，组织存储分析数据的存档。 与工厂自动化过程控制系统的通信 高表达性、分析准确性、低检出限、分析的重现性。 可靠性高。 分析仪的工作原理是基于来自X射线管的辐射激发被研究物质原子的荧光辐射。 特定化学元素的荧光辐射由分析仪晶体释放，之后由X射线检测器记录具有一定波长的辐射。 所记录的某一波长的荧光辐射的强度与所研究物质中化学元素的质量分数成正比。

该装置旨在通过撒粉-吹气法法激发电弧中粉末样品的原子发射光谱。 它提供了高性能的常规分析，具有低消耗的石墨电极，并与任何光谱设备一起使用–"Grand"，STE-1，DFS-458，MFS-8，PGS-2等。

实验室红外傅里叶光谱仪FSM2211专为近红外范围内的定量和定性研究而设计。 它具有光谱BIC分析方法的所有优点：接收数据的信息含量高，测量的速度和准确性，不需要样品的初步准备和人员的特殊培训。 波段在红外吸收光谱中的位置携带关于样品的定性组成的信息，而波段的强度允许其定量分析，即确定相应组分的浓度（或其它性质）。 这是使用校准模型完成的，该模型是吸收指数（透射）和组分浓度（样品的性质）之间的关系。 根据校准的结果预先计算校准模型，该校准模型包括用已知的（通过标准化学方法建立的）组分浓度或其他已知性质配准一批样品的光谱。 FSM2211光谱仪基于具有自补偿功能的迈克尔逊型干涉仪，不需要动态调整。

为辐射纯度提供标准化金属熔体样品的快速分析. 使用最大似然法对谱进行计算机处理 自动计算样品密度 同时积累和处理光谱数据 测量的方法支持

-搜索和检测伽马射线源，识别放射性核素成分 -测量伽马辐射的环境剂量当量 紧凑性和高灵敏度的结合 无需使用PC即可分析光谱和识别放射性核素的能力 内置GPS模块 声、光和振动警报

这种小型光谱仪是解决金属和合金的输入控制和拆卸问题的绝佳工具，也可用于高等和中等专业教育机构的教育过程中。 技术规格: 基于具有平坦场的非经典凹晶格的光学系统，具有氩气吹扫（氩气消耗约0.05升/分钟）。 光谱范围为178-410纳米。 辐射接收器是4个多元素线性探测器。 测量浓度范围0.01%-10 % 相对误差（取决于浓度）为5％...30% 析时间10...40秒 重量24公斤 尺寸625x420x260毫米 电源要求电压220±22V，50Hz，单相带接地。 功率不超过1千伏安 氩气要求氩气含量不低于99.998%

用于监测半导体晶片参数的测试仪FSM1201P允许按照操作者设定的程序，自动测量放置在测量台上的直径为76、100、125、150和200毫米的平面平行抛光硅晶片。 一点的标准测量时间不超过20秒。 主要受控参数: 间质氧的浓度(板厚0.4-2.0mm)内(5×1015-2×1018)±5×1015 sm-3(半MF1188); 取代碳浓度(板厚0.4-2.0mm)范围:(1016-5×1017)±1016cm-3(半MF1391); 硅片中氧分布的径向不均匀性(半MF951); n-n+和p-p+类型的硅结构的外延层的厚度在(0.5–10.0)±0.1微米、(10-200)±1%微米(SEMI MF95)的范围内; CNS结构中外延硅层的厚度在(0.1-10.0)±1%微米范围内; FSS层中的磷和bfss层中的硼/磷的浓度在(1-10)±0.2重量％以内。

该光谱仪是根据Cherni-Turner方案创建的，该方案基于平面衍射光栅和带有一行光电探测器的MAES分析仪。 由于光检测器范围的冷却和温度稳定，以及由于其无壳设计，其中没有复盖玻璃上的辐射的再反射并且记录光谱中的背景水平降低，它具有增加的光度 对光谱仪的光学方案和设计进行了优化，以在190-1100nm光谱范围内的任何区域中获得具有低背景辐射水平的高质量光谱。 工作区域的选择是通过改变和旋转衍射光栅来进行的。 光谱仪的密封壳体中充有惰性气体。 使用石英电容器或带有SMA-905连接器的光纤电缆将辐射注入光谱仪。 光谱仪的光学方案和设计受专利保护。