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IPK 25-K2 提升工具设计用于使用标准钢丝绳设备和 YaM 型机械震击器从井下室提升抑制阀和盲阀。

专为用于高功率固态激光系统而设计。放大器使用来自 FGUP NITIIM 的磷酸盐玻璃 KGGSS-0180 制成的有源元件。有源元件放置在充满浸没式冷却液的玻璃池中。用于泵浦棒状有源元件的脉冲氙灯，被反射镜包围。

低温氦装置的技术特点: 低温氦装置 4/4,2 低温氦装置 600/15 低温氦装置 300/4,5 低温氦装置 500/4.5 低温氦装置 1600/4.5 低温氦装置 6000/20 冷却能力，瓦每工业装置。 20К 低温氦装置 4/4,2 - 低温氦装置600/15 - 低温氦装置300/4,5 - 低温氦装置500/4,5 - 低温氦装置1600/4,5 - 低温氦装置6000/20-6000 15К 低温氦装置4/4,2 - 低温氦装置600/15-600 低温氦装置300/4.5 - 低温氦装置500/4,5 - 低温氦装置1600/4,5 - 低温氦装置6000/20 - 4.5K 低温氦装置4/4,2-4 低温氦装置600/15 - 低温氦装置300/4,5-250 低温氦装置500/4,5-550 低温氦装置1600/4.5t-1850 低温氦装置6000/20- 液化模式容量，升小时 低温氦装置 4/4,2-4 低温氦装置 600/15-45 低温氦装置 300/4,5-100 低温氦装置 500/4,5-200 低温氦装置 1600/4.5-500 低温氦装置 6000/20 -

性能说明: 额定功率，kW 0.6 额定电压，kV 160 有效焦点规模，宽度/长度0.5/0.5 mm 靶材的倾斜角，度20.0 X辐射输出角，度, 平行于轴 60º, 垂直于轴 80° 最大电流，mA 8,0 白炽参数(Uн, В 没有更多; Iн, А没有更多) 3,2; 3,4/4,0 外形尺寸，mm 67/195

目的：化学、光谱等分析采样 熔融金属 适用范围：氧气转炉、电弧炉、感应炉、脱气机、钢包、浇包等。 采样器类型： 带模具 - 椭圆形、圆形 工作温度范围（取决于采样器类型）： 从 1460°С 到 2020°С 选择时间：3~5秒 管长度：100 至 1500 mm（可根据要求提供其他长度） 渣帽：钢、纸板、铝 脱氧剂：无脱氧剂、铝、锆、钛

性能说明: 额定功率，kW 0.2 额定电压，kV 100 有效焦点规模，宽度/长度0,6/0,3 mm 靶材的倾斜角，度19.0 X辐射输出角，度, 平行于轴 4,0º, 垂直于轴 87° 最大电流，mA 10,0 白炽参数(Uн, В 没有更多; Iн, А没有更多) 6,0; 2,0 外形尺寸，mm 41/115

性能说明: 额定功率，kW 0.8 额定电压，kV 160 有效焦点规模，宽度/长度4.0 mm 白炽参数(Max Uн, В; Max Iн, А) 4,3；4,0 外形尺寸，mm 67/192 X辐射输出角，度, 平行于轴 40º 最大电流，mA 16.5

光谱仪在监测模式下运行。 它涵盖了从5到200纳米的范围，有可能上限范围扩展到10微米。

气化器是一个复杂的装置，包括一个用于储存和输送液氮、氩气或氧气的储罐，一个用于气化液态低温产品的大气气化器，以及阀门和管道。

水泥原料磨机负荷控制装置 UKZM-1 旨在使用与熟料或原材料装料研磨过程状态相关的间接信号来控制和指示原材料和水泥球磨机的装载程度。

ANTAUS 光纤激光器将高能量脉冲与足够高的重复率结合在一起，因此该系统既可用于各种材料的精细加工，也可用于科学研究。ANTAUS 的脉冲持续时间短，脉冲时间曲线近乎完美，几乎没有基座。该激光器采用全光纤电路，带有一个自由空间压缩器，用于最终压缩输出脉冲。该系统是一个基于掺镱光纤的振荡器+带有自由空间脉冲压缩器的放大器。采用这种方案，无需额外的调整或校准，就能保证系统的高稳定性，并尽可能提高输出脉冲的能量和光束质量。 我们提供三种基本型号的 ANTAUS 激光系统： ANTAUS-10W 系列的单脉冲能量最低，但平均功率相当高，具有很高的应用灵活性，而基本输出脉冲重复率则是所有型号中最高的。此外，这种改型的成本也最具吸引力。 ANTAUS-20W 系列具有一组最佳输出参数：输出功率大、脉冲能量高、重复率快。它的应用范围最广。 ANTAUS-40W 系列在所有三种型号中具有最高的输出功率和脉冲能量，适用于需要高功率和脉冲能量的解决方案，如泵浦 OPO 和 OPA 系统。 根据要求，可在系统中集成声光调制器，以调节输出重复率，并可实现脉冲持续时间调谐模式。系统输出信号的重复频率可在规定的基频范围内进行调节，并可根据要求提高到数十兆赫。任何系统都可以根据要求增加新的 "脉冲串 "模式，在该模式下，系统可以产生一列间隔很近的脉冲（脉冲之间的间隔约为 25 ns），从而使这些脉冲的总能量远高于单个脉冲的能量。这种模式适用于精密微加工和表面图案化应用。系统还可选配一个板载衰减器，利用外部光电探测器信号稳定输出功率，系统还可配备一个 ALock 相位-频率参考单元，用于 Frep 同步或 Fceo 稳定。 该系统已作为 OEM 光源用于视力矫正激光系统（Femto-LASIK 操作），以及太赫兹研究、材料表面结构、双光子聚合和许多其他应用。