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主要应用领域是环境监测、卫生研究、食品检验、生物技术、医药、地质、冶金、科学研究。 使用版本 -单灯光谱仪，内置自动进样器; -具有自动调节的六灯架切换装置和内置自动进样器的光谱仪。

以安装在FT-801光谱仪的比色皿隔室中的光学-机械附件的形式制成具有所研究液体的可调层厚度的液体比色皿。 它包含聚焦光学器件，两个直径为10mm的窗口基板的可拆卸支架和放置在控制台外壳的上面板上的两个调节螺钉，旨在设置窗口之间所需的间隙。 任何粘度程度的液体以小滴的形式预先施加到下部窗口，然后，在窗口平滑收敛的过程中，均匀地填充它们之间的间隙。 通过旋转调节螺钉并在线观察透射光谱，用户有机会设置所需的液体层厚度，由整个光谱的整体强度或由特定吸收带的强度引导。 在存在校准（使用ZaIR3.5程序对已知浓度的多个样品易于创建）的情况下，比色皿可进行定量测量。 比色皿在分析含有小比例杂质的混合物时是必不可少的。 技术规格 在频谱的工作范围内传输，输入信号的%至少为50 配准光谱时推荐的扫描次数为16 16次扫描时的频谱配准时间（分辨率4cm-1），sec20 研究液体的最小体积，mm31 焦点的直径，mm3 外形尺寸,mm200×90×160 重量,公斤1,1 该图显示了粘性润滑剂"Buxol"的几个光谱，说明了在窗口之间选择样品层厚度的过程。 测量过程具有较高的表达性和再现性，采用廉价的可更换衬底窗，系统易于配置和清洁，需要极少量的样品以获得高质量的光谱。

该发生器旨在用于原子发射光谱分析装置中发生电弧和火花放电。该发生器专门设计用于分析复杂样品的光谱分析，在广泛的浓度范围内同时确定杂质和合金组分

石英比色皿专为研究液体样品而设计，具有固定的光程长度。 它们特别用于通过IR吸收光谱（控制区域-2925cm-1）确定水中石油产品和液氨中石油的质量浓度。 Kfk型比色皿由KV品牌的光学石英玻璃制成。 光程长度1, 3, 5, 10, 20, 30, 40, 50 嗯

“АЛМАСС”型高效液相色谱-质谱联用仪工作台专为放置高效液相色谱-质谱联用系统而设计。 特点： - 台面尺寸，厘米（宽 x 高 x 深）：88 x 190 x 85； - 前级真空泵空间，厘米（宽 x 高 x 深）：615 x 545 x 861； - 气体发生器空间，厘米（宽 x 高 x 深）：841 x 798 x 861； - 重量，公斤：130–140（取决于配置）。 * 可根据客户需求更改附加设备的空间尺寸和配置。 设备： - 通风系统和减震平台。 - 用于调节通风系统温度的传感器。 - 带隔音装置的前级真空泵空间。 - 带通风系统的隔音气体发生器或冷却器存放空间。 - 系统单元的机箱。 - 带制动机构的可移动加强轮，至少 2 个。 - 用于轻松连接的技术孔和电缆通道。 - 电源插座组。

UZS-6m机器以高再现性提供所需形状的煤样的锐化，这是获得可靠结果的重要条件。 技术规格: 反电极锐化的形状是球形的，带有平台的锥形。 样品载体电极锐化的形状为圆柱形通道。 电极轴的接地部分的错位不大于0.2mm。 处理表面的纯度等级不低于5。 发动机转速2620转。 机器容量为120台/小时。 外形尺寸为230x195x145mm。 重量2.5公斤。 功耗为40VA。 电源来自单相AC220V，50Hz。

“Aspect” 金属样品蒸发器的工作过程包括：: 控制原子发射光谱分析综合体的所有设备-MAES分析仪，球闪电发生器，包括外部设备; 在钨反电极和测试样品-贵金属锭或其他金属样品的表面之间激发火花单极放电; 通过改变由计算机控制的半导体火花发生器产生的火花脉冲的重复频率和功率来调节样品表面的侵蚀强度; 通过光纤使用内置光谱仪监测搜寻的稳定性和质量; 高纯度氩气的可调流量通过密封放电室中的火花放电区，拾取表面火花侵蚀获得的样品颗粒，并将其以气溶胶的形式转移到光发射光谱仪的电感耦合等离子体炬的混合器/喷雾器的区域。; 高纯度氩气的流量由微处理器控制的质量流量控制器提供、控制和调节，范围从0.5到3升/分钟。 进料稳定性0.01l/min。

移动光谱仪的主要优点是不仅能够在专门制备的样品上在实验室条件下测量合金的成分，而且还能够直接在车间或仓库中测量合金的成分，而无需锯

激光源设计用于在对硬岩石-金属，矿物，玻璃等进行高质量光谱分析时激发原子发射光谱。 源基于双脉冲YAG：Nd激光器，具有电光Q因子调制，工作在1064nm的主波长。 每个脉冲的持续时间不超过10ns，它们之间的延迟从0到60微秒可调。 激光束聚焦在300至1000微米的区域的能力使得能够对夹杂物进行微量分析，执行表面的二维扫描或局部分析样品，而表面几乎没有损坏。 激光源的一个显着优点是对于广泛的导电和非导电材料的表现力和缺乏特殊的样品制备。 使用集成到系统中的立体显微镜以及具有图像传输到计算机的高分辨率数字视频摄像机进行光束在样品处的视觉观察和指向。 用固定样品移动仪器台既可以手动进行调整，也可以在分析过程中借助步进电机在两个坐标中进行调整，从而提供表面扫描和参考视频图像记录光谱。 安装可以与任何光谱设备一起使用–"Grand"，"Aspect"，"Express"，"Kolibri-2"，STE-1，DFS-458，MFS-8，PGS-2等。 激光源设计用于在对硬岩石-金属，矿物，玻璃等进行高质量光谱分析时激发原子发射光谱。 源基于双脉冲YAG：Nd激光器，具有电光Q因子调制，工作在1064nm的主波长。 每个脉冲的持续时间不超过10ns，它们之间的延迟从0到60微秒可调。 激光束聚焦在300至1000微米的区域的能力使得能够对夹杂物进行微量分析，执行表面的二维扫描或局部分析样品，而表面几乎没有损坏。 激光源的一个显着优点是对于广泛的导电和非导电材料的表现力和缺乏特殊的样品制备。 使用集成到系统中的立体显微镜以及具有图像传输到计算机的高分辨率数字视频摄像机进行光束在样品处的视觉观察和指向。 用固定样品移动仪器台既可以手动进行调整，也可以在分析过程中借助步进电机在两个坐标中进行调整，以参考视频图像提供表面扫描和光谱记录。 安装可以与任何光谱设备一起使用–"Grand"，"Aspect"，"Express"，"Kolibri-2"，STE-1，DFS-458，MFS-8，PGS-2等。

用于监测半导体晶片参数的测试仪FSM1201P允许按照操作者设定的程序，自动测量放置在测量台上的直径为76、100、125、150和200毫米的平面平行抛光硅晶片。 一点的标准测量时间不超过20秒。 主要受控参数: 间质氧的浓度(板厚0.4-2.0mm)内(5×1015-2×1018)±5×1015 sm-3(半MF1188); 取代碳浓度(板厚0.4-2.0mm)范围:(1016-5×1017)±1016cm-3(半MF1391); 硅片中氧分布的径向不均匀性(半MF951); n-n+和p-p+类型的硅结构的外延层的厚度在(0.5–10.0)±0.1微米、(10-200)±1%微米(SEMI MF95)的范围内; CNS结构中外延硅层的厚度在(0.1-10.0)±1%微米范围内; FSS层中的磷和bfss层中的硼/磷的浓度在(1-10)±0.2重量％以内。

具有火焰和电热两种雾化方式的组合式原子吸收光谱仪。 主要分析对象： 在火焰原子化模式下 天然水和废水 大气和工作区空气 土壤和海底沉积物 钢和合金； 生物物体。 电热雾化模式： 饮用水和天然水； 大气 土壤和底层沉积物； 食品（谷物和谷物制品、鱼、蛋、奶和奶制品、油脂和肉类加工业产品）； 混合饲料 酒精产品； 钢和合金； 生物物体，包括：全血、血清、毛发、指甲、肝组织。 光谱范围 190-900 纳米 波长精度 0.15 纳米 分辨率 < 0.2 nm ± 0.02 nm 稳定性：30 分钟内基线漂移小于 ± 0.002 e.o.p. 尺寸 1100 毫米 × 535 毫米 × 540 毫米 质量 130 千克